Составители:
Рубрика:
50
(Zero- bias bulk-drain junction capacitance Cbd [CBD]).
5. Емкость донной части перехода исток-подложка при нулевом смещении,
Ф (Zero-bias bulk-source junction capacitance Cbs [CBS]).
6. Напряжение инверсии приповерхностного слоя подложки, В (Bulk-junction
potential рВ [РВ]).
В программе EWB 5.0 количество параметров моделей МДП - транзисторов
размещаются в трех диалоговых окнах-закладках. К дополнительно введенным
относятся следующие параметры:
LD — длина области боковой диффузии, м;
RSH — удельное сопротивление диффузионных областей истока
и стока,
Oм;
JS — плотность тока насыщения перехода сток (исток)-подложка, А/м
2
CJ — удельная емкость донной части p-n - перехода сток (исток)-подложка
при нулевом смещении, Ф/м
2
;
CJSW — удельная емкость боковой поверхности перехода сток (исток)-
подложка, Ф/м;
MJ — коэффициент плавности перехода подложка-сток (исток);
CGSO — удельная емкость перекрытия затвор-исток (за счет боковой диф-
фузии), Ф/м;
CGDO — удельная емкость перекрытия затвор-сток на длину канала (за счет
боковой диффузии), Ф/м;
CGBO — удельная емкость перекрытия затвор-подложка (вследствие
выхода
области затвора за пределы канала), Ф/м;
NSUB — уровень легирования подложки, 1/см
2
;
NSS — плотность медленных поверхностных состояний на границе кремний
— подзатворный оксид, 1/см
2
;
ТОХ — толщина оксида, м;
TPG — легирование затвора; +1 — примесью того же типа, как и для под-
ложки, -1 — примесью противоположного типа, 0 — металлом;
UO — подвижность носителей тока в инверсном слое канала, см
2
/В/с;
FC — коэффициент нелинейности барьерной емкости прямо смещенного пе-
рехода подложки;
Параметры KF, AF и TNOM уже неоднократно рассматривались ранее.
Эквивалентные схемы МДП - транзисторов в EWB соответствуют самой
простой модели первого уровня программы PSpice.
Для арсенид - галлиевых полевых транзисторов (встроенная модель имеется
только в EWB 5.0) набор параметров по составу примерно такой же, как и для
(Zero- bias bulk-drain junction capacitance Cbd [CBD]). 5. Емкость донной части перехода исток-подложка при нулевом смещении, Ф (Zero-bias bulk-source junction capacitance Cbs [CBS]). 6. Напряжение инверсии приповерхностного слоя подложки, В (Bulk-junction potential рВ [РВ]). В программе EWB 5.0 количество параметров моделей МДП - транзисторов размещаются в трех диалоговых окнах-закладках. К дополнительно введенным относятся следующие параметры: LD — длина области боковой диффузии, м; RSH — удельное сопротивление диффузионных областей истока и стока, Oм; JS — плотность тока насыщения перехода сток (исток)-подложка, А/м2 CJ — удельная емкость донной части p-n - перехода сток (исток)-подложка при нулевом смещении, Ф/м2; CJSW — удельная емкость боковой поверхности перехода сток (исток)- подложка, Ф/м; MJ — коэффициент плавности перехода подложка-сток (исток); CGSO — удельная емкость перекрытия затвор-исток (за счет боковой диф- фузии), Ф/м; CGDO — удельная емкость перекрытия затвор-сток на длину канала (за счет боковой диффузии), Ф/м; CGBO — удельная емкость перекрытия затвор-подложка (вследствие выхода области затвора за пределы канала), Ф/м; NSUB — уровень легирования подложки, 1/см2; NSS — плотность медленных поверхностных состояний на границе кремний — подзатворный оксид, 1/см2; ТОХ — толщина оксида, м; TPG — легирование затвора; +1 — примесью того же типа, как и для под- ложки, -1 — примесью противоположного типа, 0 — металлом; UO — подвижность носителей тока в инверсном слое канала, см2/В/с; FC — коэффициент нелинейности барьерной емкости прямо смещенного пе- рехода подложки; Параметры KF, AF и TNOM уже неоднократно рассматривались ранее. Эквивалентные схемы МДП - транзисторов в EWB соответствуют самой простой модели первого уровня программы PSpice. Для арсенид - галлиевых полевых транзисторов (встроенная модель имеется только в EWB 5.0) набор параметров по составу примерно такой же, как и для 50
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 44
- 45
- 46
- 47
- 48
- …
- следующая ›
- последняя »