ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
5
1.  Распределения  ионно-имплантированных примесей 
 при наклонной   имплантации 
При внедрении  ускоренных ионов  в  полубесконечную   подложку под  углом  θ  
к   нормали   максимум  распределения   смещается   к   поверхности.  При  этом  в 
значение  среднеквадратичного  отклонения   ∆ R   вносит   вклад  как   продольное 
среднеквадратичное  отклонение  ∆ R
p
,  так   и  среднеквадратичное  поперечное 
отклонение  ∆ R
⊥  
[1].  В   результате  распределение  примеси  N(x)  по  нормали  к  
поверхности при наклонной   имплантации  имеет   вид: 
-  в случае  неусеченной   гауссианы, когда  R
p
≥ 3 ∆ R
p
, 
;
2
2
2
)cos(
2
)(
R
p
Rx
e
R
Q
xN
∆
−
−
⋅
∆
=
θ
π
                                     (1.1) 
-  в случае  усеченной   гауссианы, когда  R
p
<3∆R
p
, 
,
2
2
2
)cos(
2
cos
1
2
)(
R
p
Rx
e
R
p
R
erfR
Q
xN
∆
−
−
⋅
∆
+∆
=
θ
θ
π
                       (1.2) 
где  θθ
22222
sin
2
1
cos
⊥
∆+∆=∆ RRR
p
; 
Q - доза имплантации; 
∫
−
=
z
z
dzezerf
0
2
2
)(
π
 - интеграл  функции  ошибок   Гаусса. 
Если   исходная   подложка легирована примесью  противоположного  типа  с 
исходной   концентрацией   N
исх
,  то  возможно формирование  одного  или   двух  p-n 
переходов (рис.1),  глубины  x
j1,2
  залегания   которых  находятся   из   условия       
N(x
j1,2
)-N
исх
=0.  
Для   случая   неусеченной   гауссианы при  наклонной   имплантации  глубины 
залегания  p-n переходов  рассчитываются   по  формуле 
исх
pj
RN
Q
RRx
∆
∆±=
π
θ
2
ln2cos
2,1
    .                                 (1.3) 
                                                        5
                    1. Р асп ределен ия ион н о-им п лан т ирован н ы х п рим есей
                                  п ри н аклон н ой им п лан т ац ии
     При вн едрен ии уск орен н ы х ион ов в полубеск он ечн ую подлож к у под углом θ
к н ормали мак симум распределен ия смещ ается к поверхн ости. При э том в
зн ачен ие средн ек вадратичн ого отк лон ен ия ∆R вн осит вк лад к ак продоль н ое
средн ек вадратичн ое отк лон ен ие ∆Rp, так и средн ек вадратичн ое поперечн ое
отк лон ен ие ∆R⊥ [1]. В резуль тате распределен ие примеси N(x) по н ормали к
поверхн ости при н ак лон н ой имплан тации имеет вид:
   - в случае н еусечен н ой гауссиан ы , к огдаRp≥3∆Rp,
                                                                ( x − R p cos θ ) 2
                                                            −
                                    N ( x) =
                                               Q
                                                       ⋅e            2 ∆R 2              ;                  (1.1)
                                               2π ∆R
   - в случае усечен н ой гауссиан ы , к огдаRp<3∆Rp,
                                                                                    ( x − R p cosθ )2
                                                                                −
                               N ( x) =
                                                   Q
                                                                           ⋅e            2 ∆R 2         ,   (1.2)
                                          π        R p cosθ          
                                           ∆R 1+ erf                   
                                          2           2 ∆R           
                                                                       
                           1
где ∆R 2 = ∆R p2 cos 2 θ + ∆R⊥2 sin 2 θ ;
                           2
     Q - дозаимплан тации;
                    2 z −z2
                    π ∫0
      erf ( z ) =        e dz - ин теграл ф ун к ции ош ибок Гаусса.
       Е сли исходн ая подлож к а легирован а примесь ю противополож н ого типа с
исходн ой к он цен трацией Nи сх, то возмож н о ф ормирован ие одн ого или двух p-n
переходов (рис.1), глубин ы xj1,2 залеган ия к оторы х н аходятся из условия
N(xj1,2)-Nи сх=0.
       Д ля случая н еусечен н ой гауссиан ы при н ак лон н ой имплан тации глубин ы
залеган ия p-n переходов рассчиты ваю тся поф ормуле
                                                                         Q
                                 x j1, 2 = R p cosθ ± ∆R 2 ln                                .              (1.3)
                                                                      2π ∆RN и сх
Страницы
- « первая
 - ‹ предыдущая
 - …
 - 3
 - 4
 - 5
 - 6
 - 7
 - …
 - следующая ›
 - последняя »
 
