ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
5
1. Распределения ионно-имплантированных примесей
при наклонной имплантации
При внедрении ускоренных ионов в полубесконечную подложку под углом θ
к нормали максимум распределения смещается к поверхности. При этом в
значение среднеквадратичного отклонения ∆ R вносит вклад как продольное
среднеквадратичное отклонение ∆ R
p
, так и среднеквадратичное поперечное
отклонение ∆ R
⊥
[1]. В результате распределение примеси N(x) по нормали к
поверхности при наклонной имплантации имеет вид:
- в случае неусеченной гауссианы, когда R
p
≥ 3 ∆ R
p
,
;
2
2
2
)cos(
2
)(
R
p
Rx
e
R
Q
xN
∆
−
−
⋅
∆
=
θ
π
(1.1)
- в случае усеченной гауссианы, когда R
p
<3∆R
p
,
,
2
2
2
)cos(
2
cos
1
2
)(
R
p
Rx
e
R
p
R
erfR
Q
xN
∆
−
−
⋅
∆
+∆
=
θ
θ
π
(1.2)
где θθ
22222
sin
2
1
cos
⊥
∆+∆=∆ RRR
p
;
Q - доза имплантации;
∫
−
=
z
z
dzezerf
0
2
2
)(
π
- интеграл функции ошибок Гаусса.
Если исходная подложка легирована примесью противоположного типа с
исходной концентрацией N
исх
, то возможно формирование одного или двух p-n
переходов (рис.1), глубины x
j1,2
залегания которых находятся из условия
N(x
j1,2
)-N
исх
=0.
Для случая неусеченной гауссианы при наклонной имплантации глубины
залегания p-n переходов рассчитываются по формуле
исх
pj
RN
Q
RRx
∆
∆±=
π
θ
2
ln2cos
2,1
. (1.3)
5 1. Р асп ределен ия ион н о-им п лан т ирован н ы х п рим есей п ри н аклон н ой им п лан т ац ии При вн едрен ии уск орен н ы х ион ов в полубеск он ечн ую подлож к у под углом θ к н ормали мак симум распределен ия смещ ается к поверхн ости. При э том в зн ачен ие средн ек вадратичн ого отк лон ен ия ∆R вн осит вк лад к ак продоль н ое средн ек вадратичн ое отк лон ен ие ∆Rp, так и средн ек вадратичн ое поперечн ое отк лон ен ие ∆R⊥ [1]. В резуль тате распределен ие примеси N(x) по н ормали к поверхн ости при н ак лон н ой имплан тации имеет вид: - в случае н еусечен н ой гауссиан ы , к огдаRp≥3∆Rp, ( x − R p cos θ ) 2 − N ( x) = Q ⋅e 2 ∆R 2 ; (1.1) 2π ∆R - в случае усечен н ой гауссиан ы , к огдаRp<3∆Rp, ( x − R p cosθ )2 − N ( x) = Q ⋅e 2 ∆R 2 , (1.2) π R p cosθ ∆R 1+ erf 2 2 ∆R 1 где ∆R 2 = ∆R p2 cos 2 θ + ∆R⊥2 sin 2 θ ; 2 Q - дозаимплан тации; 2 z −z2 π ∫0 erf ( z ) = e dz - ин теграл ф ун к ции ош ибок Гаусса. Е сли исходн ая подлож к а легирован а примесь ю противополож н ого типа с исходн ой к он цен трацией Nи сх, то возмож н о ф ормирован ие одн ого или двух p-n переходов (рис.1), глубин ы xj1,2 залеган ия к оторы х н аходятся из условия N(xj1,2)-Nи сх=0. Д ля случая н еусечен н ой гауссиан ы при н ак лон н ой имплан тации глубин ы залеган ия p-n переходов рассчиты ваю тся поф ормуле Q x j1, 2 = R p cosθ ± ∆R 2 ln . (1.3) 2π ∆RN и сх
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 3
- 4
- 5
- 6
- 7
- …
- следующая ›
- последняя »