ВУЗ:
Составители:
134
При
∑
+
ΓΓ
jjdth
Y
,,
>10, то есть в условиях преобладания
термической десорбции продуктов реакции, величина
th
Γ
оказывается
сравнимой со скоростью заполнения активных центров, при этом
эффективность очистки активных центров достаточно высока, а доля
свободных активных центров превышает 70%. Увеличение давления
газа приводит к слабому снижению величины
(
)
θ
−
1 , однако этот
эффект компенсируется ростом потока атомов хлора, и скорость
травления возрастает по закону близкому к линейному (рис. 3.5.3).
Аналогичный эффект может иметь место и при варьировании
мощности, вкладываемой в разряд в условиях термостатирования
обрабатываемого материала. В этом случае можно ожидать
монотонного роста скорости взаимодействия с увеличением
вкладываемой мощности, характер которого коррелирует с изменением
величины потока атомов хлора на поверхность.
1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 7.0
0.8
1.0
1.2
1.4
1.6
1.8
0.0
0.2
0.4
0.6
0.8
1.0
ms
0
Γ
Cl
(1-
θ
), 10
18
см
-2
сек
-1
n
0
= P/kT, 10
16
см
-3
(1-
θ
)
Рис. 3.5.3. Пример расчета зависимости скорости травления и доли
свободной поверхности от начальной концентрации молекул Cl
2
в
условиях
∑
+
ΓΓ
jjdth
Y
,,
> 10,
5
.
0
=
m
и 1.0
0
=
s
В рамках использованного упрощенного подхода к анализу
кинетики гетерогенных плазменных процессов ННГП рассматривалась
лишь как источник активных частиц, характеристики которого зависят
только от внешних параметров разряда. В то же время можно ожидать,
что появление продуктов реакции в газовой фазе оказывает влияние на
электрофизические параметры плазмы, энергетическое распределение
электронов, а следовательно, и на баланс активных частиц,
участвующих в процессе травления. Таким образом, учет «обратной
При Γth ∑ Yd , j Γ+ , j >10, то есть в условиях преобладания
термической десорбции продуктов реакции, величина Γth оказывается
сравнимой со скоростью заполнения активных центров, при этом
эффективность очистки активных центров достаточно высока, а доля
свободных активных центров превышает 70%. Увеличение давления
газа приводит к слабому снижению величины (1 − θ ) , однако этот
эффект компенсируется ростом потока атомов хлора, и скорость
травления возрастает по закону близкому к линейному (рис. 3.5.3).
Аналогичный эффект может иметь место и при варьировании
мощности, вкладываемой в разряд в условиях термостатирования
обрабатываемого материала. В этом случае можно ожидать
монотонного роста скорости взаимодействия с увеличением
вкладываемой мощности, характер которого коррелирует с изменением
величины потока атомов хлора на поверхность.
1.8 1.0
-1
1.6 0.8
ms0ΓCl(1-θ), 10 см сек
-2
1.4 0.6
18
(1-θ)
1.2 0.4
1.0 0.2
0.8 0.0
1.0 2.0 3.0 4.0 5.0 6.0 7.0
16 -3
n0 = P/kT, 10 см
Рис. 3.5.3. Пример расчета зависимости скорости травления и доли
свободной поверхности от начальной концентрации молекул Cl2 в
условиях Γth ∑ Yd , j Γ+ , j > 10, m = 0.5 и s0 = 0.1
В рамках использованного упрощенного подхода к анализу
кинетики гетерогенных плазменных процессов ННГП рассматривалась
лишь как источник активных частиц, характеристики которого зависят
только от внешних параметров разряда. В то же время можно ожидать,
что появление продуктов реакции в газовой фазе оказывает влияние на
электрофизические параметры плазмы, энергетическое распределение
электронов, а следовательно, и на баланс активных частиц,
участвующих в процессе травления. Таким образом, учет «обратной
134
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 132
- 133
- 134
- 135
- 136
- …
- следующая ›
- последняя »
