Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 98 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ИГХТУ | Иваново

Составители: 

Рубрика: 

98
нежелательным, используются реакторы системы б), в которых зона
резонанса находится в пределах рабочей камеры, на расстоянии по-
рядка 10-20 см от поверхности обрабатываемого материала.
a) б)
в) г)
д) е)
Рис. 2.4.3. Некоторые варианты систем возбуждения ЭЦР – плазмы
Эти конструкции ЭЦР реакторов являются базовыми, а вариан-
ты в) – г) представляют их модификации с целью оптимизации ре-
зультата обработки. Так, например, при обработке материалов боль-
шой площади (например, кремниевых пластин ∅ 300 мм и более)
встает проблема равномерности процесса по площади. Одним из пу-
тей решения проблемы является создание условий, при которых ради-
альные (в плоскости, параллельной обрабатываемому материалу) рас-
пределения заряженных частиц являются как можно более плоскими,
Microwaves
Microwaves
Microwaves
Microwaves
Microwaves
Heating
zone
Heating
zone
Heating
zone
Heating
zone
Heating zone
Heating zone
Multipoles
Multipoles
Multipoles
Rf bias
Rf bias
Rf bias
Rf bias
Rf bias
Rf bias
Window
Tuner
Cavity
нежелательным, используются реакторы системы б), в которых зона
резонанса находится в пределах рабочей камеры, на расстоянии по-
рядка 10-20 см от поверхности обрабатываемого материала.
         Microwaves
                                                           Microwaves
                       Heating
                       zone                                         Heating
                                                                    zone




                       Rf bias                                         Rf bias
a)                                        б)
          Microwaves
                                                           Microwaves
                       Heating
                       zone

                            Multipoles         Heating
                                               zone

                          Rf bias                                   Rf bias
в)                                        г)
                                                                    Tuner
                Heating zone
                                                                        Window
                                 Multipoles
                                                           Cavity

                                              Multipoles

                            Rf bias       Heating zone
         Microwaves
                                                                       Rf bias
д)                                 е)
Рис. 2.4.3. Некоторые варианты систем возбуждения ЭЦР – плазмы

      Эти конструкции ЭЦР реакторов являются базовыми, а вариан-
ты в) – г) представляют их модификации с целью оптимизации ре-
зультата обработки. Так, например, при обработке материалов боль-
шой площади (например, кремниевых пластин ∅ 300 мм и более)
встает проблема равномерности процесса по площади. Одним из пу-
тей решения проблемы является создание условий, при которых ради-
альные (в плоскости, параллельной обрабатываемому материалу) рас-
пределения заряженных частиц являются как можно более плоскими,


                                       98

Страницы