Оптоэлектроника и волоконная оптика. Гуртов В.А. - 49 стр.

должно быть подготовлено чистое пространство, которое охватывает все про-
странство реакции или оборудования;
  •     смещение исходного материала может причинять структурные нару-
шения в центре ядра;
  •     во время снятия сырьевого материала с заготовки на внутренней стенке
трубки происходит натяжение, которое приводит к появлению трещин и иных
нарушений в структуре волокна. Такое иногда случается, когда коэффициенты
теплового расширения у ядра и оболочки разные. Из за этого получение воло-
кон с высокой NA затруднительно.

    Решение этой проблемы было найдено в последнее время. Например, слой
с NA = 0,3 можно получить, понижая в максимально возможной степени раз-
ность в коэффициентах теплового расширения материалов покрытия и ядра.

3.3.3. VAD-метод (axial vapor deposition)
    В третьем методе, разработанном японскими фирмами, среди которых
NTT, “Sumitomo” и др., реализована более сложная конструкция. Заготовка
растет из затравки, расположенной на определенном расстоянии выше пламе-
ни горелки, имеющей сложную слоевую структуру, как у рулета.
    В середину пламени подают смесь хлоридов германия и кремния, затем
слой буферного газа, потом только хлорид кремния для чистого стекла, потом
опять буферный газ и, в конце концов, на краю горелки, кислород с водородом
— то, что, собственно говоря, и горит.
    Вещество осаждается на только что созданную в этом же процессе повер-
хность. Однако расстояние до этой поверхности должно быть строго фиксиро-
ванным, поэтому заготовка постоянно отодвигается от пламени горелки.
    Таким методом можно создавать заготовки, которых хватает на несколь-
ко тысяч километров волокна, а в принципе, процесс может быть непрерывен
— по мере изготовления заготовки из нее же можно вытягивать волокно. На
сегодняшний день это единственный метод, позволяющий осуществить произ-
водство непрерывного оптического волокна.




                                       49