Физические основы микроэлектроники. Часть 2. Ханин С.Д - 27 стр.

UptoLike

Составители: 

1. Снять вольт-фарадную характеристику образца I МДП-структуры.
Общее число точек на вольт-фарадной характеристике должно быть не менее
10.
2. Снять вольт-фарадную характеристику образца 2 МДП-структуры с
отличной технологией окисления кремния.
V. Обработка результатов измерений
В каждой точке рассчитать величину емкости МДП-структуры по формуле:
(
)
1
22
1/2
= VERfС
π
,
где f — измерительная частота (10
6
Гц); R = 1500 Ом ;
Е - напряжение на выходе источника (В);
\/ - измеренное вольтметром напряжение (В).
Y1. Содержание отчета
1. Краткое описание исследуемых образцов.
2. Схема измерительной установки.
3. Таблица с результатами расчета емкости МДП-структуры в зависимости от
приложенного к ней напряжения постоянного тока для образцов I и 2.
4. Совмещенные графики вольт-фарадных характеристик С =f(Е) образца I
и образца 2.
5. Определение относительной плотности поверхностных состояний на
границе Si-Si0
2
в образцах I и 2. Гипотетические соображения
относительно технологии окисления кремния в образцах I и 2.
6. Технологические рекомендации по получению МДП-структур с низкой
плотностью поверхностных состояний.
7. Краткие выводы.
Литература: [2], с.301-328.
27