Составители:
Рубрика:
130
Рис
. 3.1.
Вакуумная
установка
термического
напыления
В
качестве
подложек
для
дальнейших
исследований
используются
полированные
шайбы
диаметром
20
мм
из
ZnSe,
кварца
, Si, Ge, KBr
и
NaCl.
Температура
подложек
во
время
напыления
фиксируется
с
точностью
±5
0
С
в
диапазоне
(50-200)
0
С
.
Температура
подложек
определяется
специальными
спиральными
термопарами
,
устанавливаемыми
на
место
подложек
.
Параллельно
проводятся
измерения
температуры
с
помощью
проволочных
термопар
,
которые
являются
вторичным
источником
измерения
.
Скорость
вращения
подложек
обычно
составляет
(30 – 90)
оборотов
в
минуту
.
Постоянство
пределов
скорости
вращения
поддерживается
не
хуже
+2%
за
один
оборот
при
работе
в
течение
нескольких
часов
.
Контроль
толщины
напыляемых
пленок
и
скоростей
осаждения
конденсата
осуществляется
фотометрическим
методом
по
пропусканию
в
области
спектра
(0,4 - 1,1)
мкм
.
Необходимая
длина
волны
выделяется
монохроматором
МУМ
-2
(
приложение
3)
и
регистрируется
ФЭУ
-62.
Контроль
толщины
пленок
осуществляется
также
на
длинах
волн
(1,0 - 2,5)
мкм
.
Указанные
длины
волн
регистрируются
фотоприемником
на
основе
PbS.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 128
- 129
- 130
- 131
- 132
- …
- следующая ›
- последняя »
