Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 129 стр.

UptoLike

Рубрика: 

129
деталей
и
их
вращения
,
испарителей
5
и
пульта
управления
работой
узлов
и
агрегатов
установки
.
Для
наблюдения
за
ходом
процесса
напыления
в
двери
камеры
имеется
иллюминатор
7
.
Чаще
всего
он
используется
при
электронно
-
лучевом
испарении
,
когда
нужно
следить
за
режимом
работы
луча
.
Напыляемые
подложки
13
и
образец
-
свидетель
11
для
контроля
толщины
пленки
в
процессе
напыления
устанавливают
в
отверстия
приспособления
14.
В
установке
находится
оправа
для
свидетелей
,
позволяющая
устанавливать
до
10
сменных
свидетелей
.
Для
улучшения
равномерности
толщины
пленки
приспособление
14
вращается
с
частотой
до
100
об
/
мин
на
роликовых
опорах
.
Привод
вращения
приспособления
осуществляется
через
конический
ролик
16
и
бесконтактную
электромагнитную
муфту
19,
расположенную
на
рабочей
плите
установки
.
Технологический
процесс
нанесения
покрытий
требует
выполнения
ряда
операций
в
заданной
последовательности
.
Поверхность
подложек
сначала
очищается
с
помощью
изопропилового
спирта
или
ацетона
.
Методы
очистки
подложек
приведены
в
таблице
2.1.
Окончательная
очистка
подложек
производится
в
вакуумной
камере
тлеющим
разрядом
при
давлении
в
камере
(10
-1
- 10
-2
)
Тор
в
течение
(5 - 10)
минут
.
Тлеющий
разряд
обеспечивает
нагрев
и
десорбцию
примесей
,
расщепляет
органические
молекулы
с
образованием
летучих
соединений
,
улучшает
прочность
сцепления
напыляемых
слоев
и
сокращает
время
откачки
рабочего
объема
вакуумной
установки
.
Существует
два
основных
способа
термического
испарения
пленкообразующих
материалов
:
резистивное
испарение
из
нагреваемых
электрическим
током
тиглей
и
испарение
за
счет
нагрева
электронным
пучком
.
Резистивное
испарение
хорошо
изучено
и
используется
для
испарения
металлов
,
галогенидов
,
халькогенидов
и
некоторых
окислов
,
т
.
е
.
практически
для
всех
веществ
,
используемых
в
ИК
-
диапазоне
спектра
.
Для
проведения
процесса
испарения
вещества
в
вакууме
необходимо
иметь
испаритель
,
который
содержал
бы
испаряемое
вещество
и
поддерживал
бы
его
при
температуре
выше
Т
р
.
Для
пленкообразующих
материалов
эта
температура
лежит
в
диапазоне
(200 2500)°
С
(
табл
. 2.3).
Во
избежание
загрязнения
осаждаемых
пленок
вещество
испарителя
должно
иметь
при
рабочей
температуре
незначительную
упругость
паров
.
Испарители изготавливают
из
фольги
,
толщиной
(0,05 - 0,2)
мм
.
Испарители
любой
формы
легко
делаются
из
тантала
(
Та
)
и отожженной
молибденовой
(
Мо
)
фольги
.
Для
вольфрама
необходимо
пользоваться
уже
готовыми
испарителями
,
так
как
он
очень
хрупок
и
легко
ломается
.
После
прокаливания
в
вакууме
все
металлы
становятся
хрупкими
и
повторное
использование
возможно
,
как
правило
,
без
вынимания
из
токоподводов
.