Составители:
Рубрика:
  129
деталей
и
их
вращения
, 
испарителей
5
и
пульта
управления
работой
узлов
и
агрегатов
установки
. 
Для
наблюдения
за
ходом
процесса
напыления
в
двери
камеры
имеется
иллюминатор
7
. 
Чаще
всего
он
используется
при
электронно
-
лучевом
испарении
, 
когда
нужно
следить
за
режимом
работы
луча
. 
Напыляемые
подложки
13 
и
образец
 - 
свидетель
11 
для
контроля
толщины
пленки
в
процессе
напыления
устанавливают
в
отверстия
приспособления
14. 
В
установке
находится
оправа
для
свидетелей
, 
позволяющая
устанавливать
до
 10 
сменных
свидетелей
.
Для
улучшения
равномерности
толщины
пленки
приспособление
14 
вращается
с
частотой
до
 100 
об
/
мин
на
роликовых
опорах
. 
Привод
вращения
приспособления
осуществляется
через
конический
ролик
16 
и
бесконтактную
электромагнитную
муфту
19, 
расположенную
на
рабочей
плите
установки
. 
Технологический
процесс
нанесения
покрытий
требует
выполнения
ряда
операций
в
заданной
последовательности
. 
Поверхность
подложек
сначала
очищается
с
помощью
изопропилового
спирта
или
ацетона
. 
Методы
очистки
подложек
приведены
в
таблице
 2.1.  
Окончательная
очистка
подложек
производится
в
вакуумной
камере
тлеющим
разрядом
при
давлении
в
камере
  (10
-1
  -  10
-2
) 
Тор
в
течение
  (5  -  10) 
минут
. 
Тлеющий
разряд
обеспечивает
нагрев
и
десорбцию
примесей
, 
расщепляет
органические
молекулы
с
образованием
летучих
соединений
, 
улучшает
прочность
сцепления
напыляемых
слоев
и
сокращает
время
откачки
рабочего
объема
вакуумной
установки
. 
Существует
два
основных
способа
термического
испарения 
пленкообразующих
материалов
: 
резистивное
испарение
из
нагреваемых
электрическим
током
тиглей
и
испарение
за
счет
нагрева
электронным
пучком
. 
Резистивное
испарение
хорошо
изучено
и
используется
для
испарения
металлов
, 
галогенидов
, 
халькогенидов
и
некоторых
окислов
, 
т
.
е
. 
практически
для
всех
веществ
, 
используемых
в
ИК
 - 
диапазоне
спектра
. 
Для
проведения
процесса
испарения
вещества
в
вакууме
необходимо
иметь
испаритель
, 
который
содержал
бы
испаряемое
вещество
и
поддерживал
бы
его
при
температуре
выше
Т
р
. 
Для
пленкообразующих
материалов
эта
температура
лежит
в
диапазоне
  (200  – 2500)°
С
(
табл
.  2.3). 
Во
избежание
загрязнения
осаждаемых
пленок
вещество
испарителя
должно
иметь
при
рабочей
температуре
незначительную
упругость
паров
. 
Испарители изготавливают
из
фольги
, 
толщиной
 (0,05 - 0,2) 
мм
. 
Испарители
любой
формы
легко
делаются
из
тантала
 (
Та
) 
и отожженной
молибденовой
 (
Мо
) 
фольги
. 
Для
вольфрама
необходимо
пользоваться
уже
готовыми
испарителями
, 
так
как
он
очень
хрупок
и
легко
ломается
. 
После
прокаливания
в
вакууме
все
металлы
становятся
хрупкими
и
повторное
использование
возможно
, 
как
правило
, 
без
вынимания
из
токоподводов
. 
Страницы
- « первая
 - ‹ предыдущая
 - …
 - 127
 - 128
 - 129
 - 130
 - 131
 - …
 - следующая ›
 - последняя »
 
