Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 42 стр.

UptoLike

Рубрика: 

42
где
1 1
1 2
4 n d
π
Φ = + ρ + ρ
λ
.
Выражения
(1.45)
определяют
спектральные
зависимости
энергетических
коэффициентов
пропускания
и
отражения
от
длины
волны
падающего
излучения
,
оптической
толщины
разделительного
слоя
и
коэффициентов
отражения
зеркал
.
Как
нетрудно
видеть
из
выражения
(1.45),
максимальное
пропускание
светофильтра
(
T
мах
)
равное
( )
2 2
1 2
max
2
1 2
t t
T
1 r r
=
(1.46)
будет наблюдаться при
2k
Φ = π
, а минимальное T
мin
( )
2 2
1 2
min
1 2
t t
T
1 r r
=
+
(1.47)
при
(2k 1)
Φ = + π
.
Контрастность светофильтра
2
1 2
max
min 1 2
1 r r
T
C
T 1 r r
+
= =
. (1.48)
Как видно из этих выражений, контрастность светофильтра зависит
только от коэффициентов отражения образующих этот светофильтр зеркал, а
величина максимального и минимального пропускания зависит от
коэффициентов пропускания и отражения зеркал. Можно показать, что
максимальное пропускание, равное единице, будет реализовано при равенстве
коэффициентов отражения и при отсутствии поглощения в зеркалах. Для
интерференционного светофильтра, образованного четвертьволновыми
диэлектрическими зеркалами, максимальное пропускание будет определяться
пропусканием подложки, на которой сформирован этот светофильтр.
Действительно, если обозначить матрицы интерференции четвертьволновых
слоёв на длине волне λ=λ
0
, В матрица интерференции слоя с большим
показателем преломления, Н матрица интерференции слоя с меньшим
показателем преломления, то матрица интерференции такого светофильтра
будет выглядеть следующим образом: (ВНВВНВ2НВНВ…..ВНВ) или