Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 97 стр.

UptoLike

Рубрика: 

97
1,05
1,04
1,03
0,40,3
0,5
0,6 0,7
β=10º
β=12º
β=14º
β=16º
β=18º
(ρ)
ρ
Рис
. 2.10.
Распределение
толщины
пленки
(
ρ
)
по
диаметру
подложки
при
h =
2,5
для
различных
значений
угла
β
Для
рассматриваемой
формы
поверхности
угол
δ
равен
углу
β
,
а
высота
)(
ρ
h
рассчитывается
как
)()(
0
β
ρ
ρ
tghh
=
.
При
этом
величина
t(
ρ
)
является
функцией
нескольких
независимых
величин
и
зависит
от
угла
β
,
высоты
до
вершины
конуса
h
0
и
расстояния
ρ
от
оси
OZ
,
которое
,
в
свою
очередь
,
зависит
от
диаметра
подложки
.
Для
иллюстрации
полученных
зависимостей
выберем
величины
независимых
параметров
таким
образом
,
чтобы
они
были
близки
к
значениям
,
соответствующим
геометрии
оснастки
установки
ВУ
-2
М
.
При
относительной
высоте
h = 2,5
зависимости
функции
(
ρ
)
для
различных
значений
угла
β
представлены
на
рис
. 2.10.
Значения
ρ
выбраны
из
диапазона
ρ
[
ρ
min
,
ρ
max
]
,
где
ρ
min
= 0,335,
ρ
ma
x
= 0,667,
что
соответствует
подложке
диаметром
76
мм
,
находящейся
в
верхнем
ряду
оснастки
,
изображенной
на
рис
. 2.5.
При
фиксированной
относительной
высоте
h
распределение
толщины
по
подложке
зависит
от
угла
наклона
подложки
в
горизонтальной
плоскости
,
причем
существует
такое
значение
угла
наклона
β
,
при
котором
вариации
толщины
минимальны
.
Трехмерное
изображение
функционала
(2.5)
для
источника
cos(α)
при
ρ
i
[
ρ
min
;
ρ
max
]
представлено
на
рис
. 2.11 (
ρ
min
=
0,335;
ρ
max
=0,677).
Отчетливо
видна
область
на
поверхности
,
соответствующая
минимуму
функционала
.
Это
означает
,
что
в
данном
случае
можно
однозначно
определить
связь
между
β=10°
β=14°
β=12°
β=16°
β=18°
ρ