Технология материалов и изделий электронной техники. Кротова Г.Д - 24 стр.

                 2. ТЕХНОЛОГИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК

                2.1. Лабораторная работа № 2
        Получение тонких пленок методом термического
                     испарения в вакууме

     Для получения тонких пленок применяются следующие методы:
1. химические;
2. электрохимические;
3. термическое испарение в вакууме;
4. катодное распыление;
5. магнетронное распыление и т.д.
     Из всех перечисленных методов одним из наиболее универсальных и
разработанных является метод термического испарения в вакууме. В
камере для осаждения создают давление не выше 10-4 мм рт. ст. и затем
нагревают испаряемое вещество в специальном испарителе. Испарением в
вакууме можно получать и металлические, и диэлектрические пленки.
     Температуру, при которой упругость паров испаряемого вещества
достигает 10-2 мм рт. ст., условно принято называть температурой
испарения данного вещества.
     Процессы, происходящие при испарении, определяются в первую
очередь степенью вакуума в системе. Вакуум должен быть таким, чтобы
атомы испаряемого вещества не претерпевали соударений с молекулами
остаточных газов при движении к подложке. Например, длина свободного
пробега молекул азота составляет 5·10-3 см при давлении 1 мм рт. ст.
Поэтому при изготовлении пленок методом термического испарения
необходимо давление не выше 10-4 мм рт. ст. В этом случае испаренные
атомы распространяются прямолинейно и подчиняются известным из
оптики законам Ламберта:
     1. Интенсивность испускания под углом φ относительно нормали к
испускающей поверхности пропорциональна cosφ.

                                    24