ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
аб а 7. ва u
2
Si авнен м с
изоструктурным инением
SiO
5
14.590, 6.820,
10.520 Å,
β
= . гр установка
пе нта
н я L
ру ое с ине
Y
2
Si ETR E)
-49-
ние L
Т лиц Индициро
O ср
5
ие
соед Y
2
(a= b=
c= 122.3°; пр .С2/с (стандартная )
Экс
дан
риме
ые дл
льные
u
SiO
2 5
Изост ктурн
O (R
оед
IEV
ние
5
2θ
°
d, Å I
ОТН
,%
I
2θ
°
d, Å
ОТН
,% hkl
14.701 6.02 18 14.4 6.15 15.4 200
15.243 110 5.81 33 14.8 5.98 15.3
16 1 .023 5.53 4 15.6 5.68 0.3 -11
2
20.0 4.44 <1
,
002
0.536 4.32 7 19.9, 4.46, 1.1, 111
22.257 3.99 29 21.6 4.11 2.73 -112
23.139 3.84 79 22.5 34 3.95 .7 -311
24.684 3.60 5 24.0 3.70 6.4 -321
25.511 3.49 38 24.8 3.59 66.5 -402
25.963 3.43 9 25.3 3.52 0.4 310
26.889 24 3.31 26.1 3.41 8.5 020
28.814 3.095 79 27.9,
28.0
3.20,
3.18
0.9,
31.7
112,
021
30.000 2.976 100 29.2 3.055 35.0 -313
30.802 75 2.900 29.9,
30.0
2.986,
2.976
13.7,
9.1
220,
-113
31.179 90 2.866 30.4 2.938 100 202
Из табл видно, дифр онны ки ф Lu
проиндицированы и в том, в ом ае, о
вл вполне идны
-
Основные трудности инди ван использованием
кт :
подбор изоструктурного соединения,
взаимного а
раметров,
-изменение относительной сивности линий вследствие
рассеивающей со обоих
исталлические структуры многих
сл как искажение более
пр . Иногда при этом
рентгенограмме
или подробно
мо разби
искажения
индицирование
иц что акци е пи азы
2
SiO
5
и друг случ чт
предста яется очев м.
50-
циро ия с
изостру урного соединения
-
-наложение линий с разными индексами,
-изменение р сположения линий при сравнительно
небольшом изменении отношения па
интен
разной спо бности атомов в
соединениях.
• Метод гомологии. Кр
ожных веществ можно рассматривать
остых структур с высокой симметрией
следует изменить направление и величину векторов решетки,
что приводит к изменению индексов линий на
дифрактограмме. Этот вопрос рассмотрен
В.И.Михеевым для исходных кубических ячеек (F, I, P
) и
гексагональной, соответствующей гексагональной плотнейшей
упаковке (двуслойной). Таблицы, составленные В.И.Михеевым,
значительно облегчают применение принципа гомологии.
Индицирование методом гомологии жно ть на
несколько этапов: подбор исходной элементарной ячейки,
определение типа исходной ячейки, проверка типа
искажения и основных линий дифрактограммы,
-49- -50- Таблица 7. Индицирование Lu2SiO5 сравнением с Основные трудности индицирования с использованием изоструктурным соединением Y2SiO5 (a=14.590, b=6.820, c=10.520 Å, β=122.3°; пр. гр.С2/с (стандартная установка) изоструктурного соединения: - подбор изоструктурного соединения, Экспериментальные Изоструктурное соединение данные для Lu2SiO5 Y2SiO5 (RETRIEVE) -наложение линий с разными индексами, 2θ° d, Å IОТН ,% 2θ° d, Å IОТН,% hkl -изменение взаимного расположения линий при сравнительно 14.701 6.02 18 14.4 6.15 15.4 200 небольшом изменении отношения параметров, 15.243 5.81 33 14.8 5.98 15.3 110 -изменение относительной интенсивности линий вследствие 16.023 5.53 4 15.6 5.68 0.3 -111 20.536 4.32 7 19.9, 4.46, 1.1, 111, разной рассеивающей способности атомов в обоих соединениях. 20.0 4.44 <1 002 • Метод гомологии. Кристаллические структуры многих 22.257 3.99 29 21.6 4.11 2.73 -112 сложных веществ можно рассматривать как искажение более 23.139 3.84 79 22.5 3.95 34.7 -311 простых структур с высокой симметрией. Иногда при этом 24.684 3.60 5 24.0 3.70 6.4 -321 следует изменить направление и величину векторов решетки, 25.511 3.49 38 24.8 3.59 66.5 -402 что приводит к изменению индексов линий на рентгенограмме 25.963 3.43 9 25.3 3.52 0.4 310 26.889 3.31 24 26.1 3.41 8.5 020 или дифрактограмме. Этот вопрос подробно рассмотрен 28.814 3.095 79 27.9, 3.20, 0.9, 112, В.И.Михеевым для исходных кубических ячеек (F, I, P) и 28.0 3.18 31.7 021 гексагональной, соответствующей гексагональной плотнейшей 30.000 2.976 100 29.2 3.055 35.0 -313 упаковке (двуслойной). Таблицы, составленные В.И.Михеевым, 30.802 2.900 75 29.9, 2.986, 13.7, 220, значительно облегчают применение принципа гомологии. 30.0 2.976 9.1 -113 Индицирование методом гомологии можно разбить на 31.179 2.866 90 30.4 2.938 100 202 несколько этапов: подбор исходной элементарной ячейки, Из таблиц видно, что дифракционные пики фазы Lu2SiO5 определение типа искажения исходной ячейки, проверка типа проиндицированы и в том, и в другом случае, что искажения и индицирование основных линий дифрактограммы, представляется вполне очевидным.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 23
- 24
- 25
- 26
- 27
- …
- следующая ›
- последняя »