Математическое моделирование и методы расчета оптических наноструктур. Ловецкий К.П - 98 стр.

UptoLike

98
Суперпозиция всех волн дает интерференционную картину,
зависящую от фазы каждой учитываемой волны. На рис. 25 изображена
схема отражения отдельных волн от тонкой пленки, нанесенной на
полубесконечную подложку, и даны соответствующие формулы Френеля
для вычисления интенсивностей отраженного луча.
Многократное отражение и преломление света на границе сред
приводит к образованию множества (бесконечного) лучей внутри
тонкопленочного покрытия. Интерференция между разными лучами
зависит от относительного сдвига фаз и амплитуды электромагнитного
поля. Для расчета вклада каждого луча в общую интенсивность можно
воспользоваться соотношениями Френеля.
С точки зрения эллипсометрии особый интерес представляет вопрос
о том, как в процессе отражения и преломления изменяются p- и s-
компоненты электромагнитного излучения по отношению друг к другу. В
этом смысле опорный луч является частью эксперимента. Луч с известной
поляризацией отражается от образца или проходит сквозь образец и на
выходе измеряется полученная поляризация. Это изменение поляризации и
является целью эллипсометрических измерений. Результат обычно
записывается в форме относительного коэффициента отражения
/
ps
rr
и представляет собой как раз ту величину, которая описывает изменение
состояния поляризации света в результате отражения. В общем случае эта
величина комплексная. Записывая относительный коэффициент отражения
в виде
,
p
i
s
r
tg e
r
где
,
p
s
r
tg
r
arg arg arg
p
p s p s
s
r
rr
r

,
получим выражения для вычисления эллипсометрических углов
и
.
Замечание. При малых значениях параметра
s
r
возможна большая
ошибка в определении угла
тангенциальным ускорением). При
близких значениях
p
r
и
s
r
возможна большая ошибка в определении угла