ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
32
Рис. 1. Упрощенная энергетическая схема полупроводника, иллюстри-
рующая конфигурацию потенциального барьера при наличии электриче-
ского поля.
Проводя интегрирование в показателе с учетом того (см. рис. 1), что
qEW = ∆E
g
, получим
)
3
24
exp(
2/3
0
qE
E
m
QQ
g
Δ
••−=
h
(3)
Из формулы (3) следует, что вероятность туннельного эффекта экспо-
ненциально зависит от напряженности поля Е (или, соответственно, от
толщины барьера). При ∆Е
g
≈ 1эВ и m = 0,1m
0
характерные поля, при ко-
торых величина Q резко изменяется от нуля до десятых долей единицы,
порядка 7·10
5
в/см. Толщина барьера W
0
(соответствующие этим величи-
нам ∆Е
g
и Е) порядка 100Ǻ. Эти характерные величины дают представле-
ние об условиях, при которых туннельный эффект в полупроводниках ста-
новится существенным.
Более строгое рассмотрение, учитывающее особенности зонной струк-
туры полупроводника, приводит к формуле, аналогичной (3) и отличаю-
щейся численным коэффициентом в показателе.
32 Рис. 1. Упрощенная энергетическая схема полупроводника, иллюстри- рующая конфигурацию потенциального барьера при наличии электриче- ского поля. Проводя интегрирование в показателе с учетом того (см. рис. 1), что qEW = ∆Eg, получим m ΔE g 3/ 2 4 2 Q = Q0 exp(− • • ) (3) 3 h qE Из формулы (3) следует, что вероятность туннельного эффекта экспо- ненциально зависит от напряженности поля Е (или, соответственно, от толщины барьера). При ∆Еg ≈ 1эВ и m = 0,1m0 характерные поля, при ко- торых величина Q резко изменяется от нуля до десятых долей единицы, порядка 7·105 в/см. Толщина барьера W0 (соответствующие этим величи- нам ∆Еg и Е) порядка 100Ǻ. Эти характерные величины дают представле- ние об условиях, при которых туннельный эффект в полупроводниках ста- новится существенным. Более строгое рассмотрение, учитывающее особенности зонной струк- туры полупроводника, приводит к формуле, аналогичной (3) и отличаю- щейся численным коэффициентом в показателе.
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 30
- 31
- 32
- 33
- 34
- …
- следующая ›
- последняя »