ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
48
случае на электроосаждённый образец методом газоплазменного
напыления наносят тонкий слой проводящего материала (как правило,
золото) толщиной 1…20 нм. Для указанной пробоподготовки нами
использовалась установка SC7620 Mini Sputter Coater фирмы Polaron.
Толщина нанесённого на образец покрытия в процессе работы установки
определяется формулой
t
V
I
,
d
17
0
=
где U – напряжение, приложенное к
газоразрядному промежутку в кВ; I – ток через газоразрядный промежуток
в мА; t – время напыления в сек; d – толщина покрытия в Å. Для типичных
значений U ~ 1 кВ и I ~ 20 мА скорость напыления составляет 3…3,5 Å/с.
Напыление тонкого слоя золота на электроосаждённый образец
существенно улучшает контраст электронномикроскопического
изображения. В качестве примера на рис.2.3 представлены
электронномикроскопические изображения морфологии габитуса
пентагонального микрокристалла меди до (рис. 2.3 а) и после (рис. 2.3 б)
нанесения покрытия. Из рисунка видно, что напыление покрытия
позволяет добиться большего разрешения и контраста мелких деталей
электронномикроскопического изображения.
а)
б)
Рис. 2.3. Электронномикроскопические изображения пентагональной микротрубки
меди, полученные до (а) и после (б) напыления золотой плёнки
Ранее в работе [10] в процессе анализа экспериментальных данных
по электроосаждению металлов была предложена модель, которая
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 46
- 47
- 48
- 49
- 50
- …
- следующая ›
- последняя »
