ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
29
Получение аморфизированных металлических слоев с помощью лазерной
обработки. Процесс получения аморфной структуры осуществляется путем
взаимодействия вещества за короткий период времени с лазерным излучением
с высокой плотностью энергии. Основная часть энергии лазерного излучения
(~10
3
– 10
10
Вт/см
2
, в зависимости от материала) расходуется на быстрое
расплавление поверхностного слоя вещества. Вследствие кратковременности
процесса основная масса материала остается не нагретой. Сохранение холодной
поверхности на границе контакта с тонким слоем расплава приводит к
охлаждению со скоростями 10
5
– 10
8
К/с. При «быстром» расплавлении
возникает весьма гомогенная жидкость, которая после затвердевания
превращается в «стекло» с необычными физическими свойствами. Процесс
образования на поверхности металлических материалов подобной структуры
получил название «лазерного стеклования».
Распыление электрическим полем.
Если между поверхностью жидкого
расплава и какой - либо поверхностью создать достаточно сильное
электрическое поле, то на поверхности расплава возникает острый выступ,
который может испускать как поток ионов атомов расплава, так и капли
размером от 0.1 до 20 мкм, которые быстро охлаждаются с образованием АМС.
Этот метод можно использовать для создания аморфных покрытий и порошков.
Ионная имплантация.
Аморфная структура создается путем внедрения
ионов с высокой энергией в поверхностный слой металлического сплава.
Способ хорош для создания коррозионностойких и упрочненных поверхностей.
Основной недостаток – малая толщина аморфизированного слоя, который
обычно не превышает 1 – 2 мкм.
Аморфизация электроискровым разрядом.
Суть этого метода заключается
в том, что поток энергии, сконцентрированный в канале искрового разряда, за
короткий промежуток времени (~10
-3
с) выделяется и расплавляет
поверхностные участки материала на глубину до 3 – 5 мкм.
Получение аморфизированных металлических слоев с помощью лазерной обработки. Процесс получения аморфной структуры осуществляется путем взаимодействия вещества за короткий период времени с лазерным излучением с высокой плотностью энергии. Основная часть энергии лазерного излучения (~103 – 1010 Вт/см2, в зависимости от материала) расходуется на быстрое расплавление поверхностного слоя вещества. Вследствие кратковременности процесса основная масса материала остается не нагретой. Сохранение холодной поверхности на границе контакта с тонким слоем расплава приводит к охлаждению со скоростями 105 – 108 К/с. При «быстром» расплавлении возникает весьма гомогенная жидкость, которая после затвердевания превращается в «стекло» с необычными физическими свойствами. Процесс образования на поверхности металлических материалов подобной структуры получил название «лазерного стеклования». Распыление электрическим полем. Если между поверхностью жидкого расплава и какой - либо поверхностью создать достаточно сильное электрическое поле, то на поверхности расплава возникает острый выступ, который может испускать как поток ионов атомов расплава, так и капли размером от 0.1 до 20 мкм, которые быстро охлаждаются с образованием АМС. Этот метод можно использовать для создания аморфных покрытий и порошков. Ионная имплантация. Аморфная структура создается путем внедрения ионов с высокой энергией в поверхностный слой металлического сплава. Способ хорош для создания коррозионностойких и упрочненных поверхностей. Основной недостаток – малая толщина аморфизированного слоя, который обычно не превышает 1 – 2 мкм. Аморфизация электроискровым разрядом. Суть этого метода заключается в том, что поток энергии, сконцентрированный в канале искрового разряда, за короткий промежуток времени (~10-3с) выделяется и расплавляет поверхностные участки материала на глубину до 3 – 5 мкм. 29
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 27
- 28
- 29
- 30
- 31
- …
- следующая ›
- последняя »