Структура и свойства неупорядоченных твердых тел. Петров А.Л - 60 стр.

UptoLike

60
разложением из смеси газов: моносилана SiH и метана СН
4
с добавками РН
5
и
ВН
3
. Продукты разложения газовой смеси осаждаются на подложку с
регулируемой температурой. Слои α -Si:H получают методом ионно-лучевого
распыления кластеров. Сущность метода заключается в электронно-лучевом
испарении кластеров, содержащих 10
2
- 10
4
атомов кремния от источника,
нагретого до 2200° С. Далее кластеры конденсируются через сопло и
ионизируются. Ускоряемые электростатически заряженные кластеры
бомбардируют подложку. Для наводороживания формируемого слоя процесс
происходит в атмосфере находящегося при низком давления газообразного
водорода. При этом связи Si-H образуются непосредственно на поверхности
роста слоя. С ростом давления уменьшается число остающихся "болтающихся"
связей, что ведет к росту оптической щели и росту удельного сопротивления
получаемого материала.
Распространенный метод получения пленок гидрогенизированного
аморфного кремния - это высокочастотное ионно-плазменное распыление
исходного кремния в атмосфере смеси аргона и водорода. Данный метод
применяется для создания аморфных слоев в интегральной кремниевой
технологии. Этот метод более безопасен по сравнению с разложением
моносилана, однако полученные пленки характеризуются большой
концентрацией локализованных состояний в запрещенной зоне, что приводит к
ухудшению электрических и оптических свойств.
Интересной для исследователей и практиков аморфной системой
являются металлосилицидные сплавы, получаемые методом конденсации на
относительно холодную подложку (до 600° К) в вакууме, либо с помощью
термического (взрывного) испарения, либо магнетронным распылением.
Пленки, получаемые таким образом на основе силицидов переходных металлов,
характеризуются широким диапазоном номиналов электросопротивления,
экстремально низким (до 10 Ом/К) температурным коэффициентом
сопротивления, высокой стабильностью и хорошими частотными
разложением из смеси газов: моносилана SiH и метана СН4 с добавками РН5 и
ВН3 . Продукты разложения газовой смеси осаждаются на подложку с
регулируемой температурой. Слои α -Si:H получают методом ионно-лучевого
распыления кластеров. Сущность метода заключается в электронно-лучевом
испарении кластеров, содержащих 102 - 104 атомов кремния от источника,
нагретого до 2200° С. Далее кластеры конденсируются через сопло и
ионизируются.      Ускоряемые      электростатически        заряженные      кластеры
бомбардируют подложку. Для наводороживания формируемого слоя процесс
происходит в атмосфере находящегося при низком давления газообразного
водорода. При этом связи Si-H образуются непосредственно на поверхности
роста слоя. С ростом давления уменьшается число остающихся "болтающихся"
связей, что ведет к росту оптической щели и росту удельного сопротивления
получаемого материала.
     Распространенный      метод     получения     пленок    гидрогенизированного
аморфного кремния - это высокочастотное ионно-плазменное распыление
исходного кремния в атмосфере смеси аргона и водорода. Данный метод
применяется для создания аморфных слоев в интегральной кремниевой
технологии. Этот метод более безопасен по сравнению с разложением
моносилана,      однако   полученные     пленки         характеризуются     большой
концентрацией локализованных состояний в запрещенной зоне, что приводит к
ухудшению электрических и оптических свойств.
     Интересной для исследователей и практиков аморфной системой
являются металлосилицидные сплавы, получаемые методом конденсации на
относительно холодную подложку (до 600° К) в вакууме, либо с помощью
термического (взрывного) испарения, либо магнетронным распылением.
Пленки, получаемые таким образом на основе силицидов переходных металлов,
характеризуются широким диапазоном номиналов электросопротивления,
экстремально     низким   (до   10    Ом/К)      температурным     коэффициентом
сопротивления,     высокой      стабильностью       и     хорошими        частотными



                                                                                  60