Материаловедение поверхности и тонких пленок. Пичугин В.Ф. - 100 стр.

UptoLike

Составители:

Рубрика:

100

ступеней, образованных участками плотноупакованных плоскостей с

малыми индексами, как показано на рисунке 5.9, а.

При низкой температуре, близкой к T = 0 K, фронт ступеней

является атомно-гладким. Тепловые флуктуации, появляющиеся при

конечных температурах, приводят к возникновению изломов в

ступенях (рис. 5.9, б).

При послойном механизме отсутствует необходимость в

образовании зародышей так что процесс роста пленки состоит из

следующих последовательных стадий, схематически показанных на

рисунке 5.10, а:

1. адсорбция частиц первичной фазы на поверхности подложки в

виде адатомов;

2. поверхностная диффузия адатомов к ступени с закреплением в ее

углу;

3. миграция атомов вдоль ступени с окончательным закреплением в

изломе.

Рис.5.10 Схема осаждения частицы первичной фазы на подложку с

моноатомной ступенью (послойный рост)(а) и с винтовой дислокацией

(спиральный рост)(б):

1- адсорбция, 2 – поверхностная диффузия, 3 – миграция вдоль ступени;

а – адатом на поверхности подложки, б – атом в углу ступени, в – атом в изломе

ступени

Поскольку ступень образует двухгранный угол, а излом −

трехгранный, то атом в, находящийся в изломе, сильнее связан с

подложкой, чем атом б, расположенный в углу ступени, а последний

сильнее, чем атом а, адсорбированный гладкой поверхностью. В

процессе осаждения каждая ступень на шероховатой поверхности

подложки последовательно застраивается частицами,

непосредственно поступающими из первичной фазы, минуя стадию

зародышеобразования. Результатом последовательного застраивания и

перемещения ступеней является новый атомный слой. Перечисленные

выше стадии показаны в виде стрелок с цифрами 1, 2 и 3 на рис.5.10,