Материаловедение поверхности и тонких пленок. Пичугин В.Ф. - 129 стр.

UptoLike

Составители: 

129
скорости осаждения и температуры подложки. Наблюдается
приблизительно линейное увеличение плотности стабильных
зародышей от времени осаждения, затем насыщение при величине
порядка ~10
9
to 10
12
см
-2
в зависимости от скорости осаждения и
температуры подложки. При дальнейшем осаждении N(t) уменьшается
в результате коалесценции. Более того, N
s
выше, чем ниже температура
подложки, как показано на рисунке 5.21. Венэйбл [31] ясно резюмировал
поведение зародышеобразования для случая, когда i принимает
некоторое целое значение. В общем, плотность стабильных кластеров
дается уравнением
TkEvnRAnN
B
P
s
exp
00
, (5.84)
где A рассчитываемая безразмерная константа, зависящая от степени
покрытия подложки. В результате таких обобщенных уравнений
экспериментальные данные для N
s
были проверены в зависимости от
температуры подложки и скорости осаждения. Параметры p и E были
определены для соответствующих величин i* и энергии десорбции,
диффузии и связи кластеров. Величины E
des
и E
s
были получены для
некоторого количества систем, что проведено в таблице 5.3. Из-за того,
что E
des
> E
s
, движение адатома в большей степени ограничено
плоскостью подложки, чем нормалью к ней. Хотя кинетическая модель
в основном использовалась для описания роста островков, она
способна, также описать и S-K механизм роста.
Таблица 5.3.Энергия десорбции и поверхностной диффузии
Материал
Подложка
E
des
(эВ)
E
s
(эВ)
Ag
NaCl (100)
W(110)
Ag(111)
Pt(111)
Si(111)
Ge(111)
0.41
2.2
(2.23)
(2.94)
2.25
2.65
0.19
0.15
0.097
0.157
1.40
0.35
Pt
Pt(111)
Ni(100)
0.26
0.69
Fe
Fe(100)
0.45
Ni
Ni(100)
Pt(100)
0.47
0.45
Cu
Cu(100)
0.40
Si
Si(100)
0/65
5.16 Коалесценция кластеров и истощение
Как было отмечено ранее, плотность стабильных зародышей
достигает некоторого максимального уровня, прежде чем уменьшится
из-за коалесценции. Рост и коалесценция зародышей характеризуется
следующими особенностями:
1. Уменьшается площадь полной проекции поверхности зародышей