ВУЗ:
Составители:
104
Рис. 61.К физическим процессам происходящим в
p-n-переходе
Толщина d слоя p-n-перехода в полупроводниках составляет при-
мерно 10
–6
– 10
–7
м, а контактная разность потенциалов – десятые доли
вольт. Носители тока способны преодолеть такую разность потенциалов
лишь при температуре в несколько тысяч градусов, то есть при обыч-
ных температурах равновесный контактный слой является запираю
-
щим (характеризуется повышенным сопротивлением).
Сопротивление запирающего слоя можно изменить с помощью
внешнего электрического поля. Если приложенное к p-n-переходу
внешнее электрическое поле направлено от n-полупроводника к p-
полупроводнику (рис. 62, a), то есть совпадает с полем контактного
слоя, то оно вызывает движение электронов в n-полупроводнике и ды-
рок в p-полупроводнике от границы p-n-перехода в противоположные
стороны. В результате запирающий слой расширится и его сопротивле-
ние возрастет. Направление
внешнего поля, расширяющего запи-
рающий слой, называется запирающим (обратным). В этом направ-
лении электрический ток через p-n-переход практически не прохо-
дит. Ток в запирающем слое в запирающем направлении образуется
лишь за счет неосновных носителей тока (электронов в p-
полупроводнике и дырок в n-полупроводнике).
Если приложенное к p-n-переходу внешнее электрическое поле
направлено противоположно полю контактного слоя (рис. 62, б), то оно
вызывает движение электронов в n-полупроводнике и дырок в p-
полупроводнике к границе p-n-перехода навстречу друг другу. В этой
области они рекомбинируют, толщина контактного слоя и его сопротив-
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 102
- 103
- 104
- 105
- 106
- …
- следующая ›
- последняя »