Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 48 стр.

UptoLike

Составители: 

50
1000
o
C
SiH
4
= Si + 2H
2
.
Недостатком силана является его способность воспламеняться на возду-
хе, поэтому его необходимо хранить в баллонах с большими мерами предос-
торожности и вводить в реактор сильно разбавленным водородом (свыше
95%). Реактор при этом тщательно очищают от следов кислорода и влаги
(например, с помощью вакуумного насоса). Наличие водорода также предо-
храняет силан от разложения в газовой фазе, что обеспечивает гетерогенный
характер реакции и улучшает качество эпитаксиальной пленки.
Для формирования легированных эпитаксиальных пленок применяют
диборан B
2
H
6
и фосфин PH
3
:
B
2
H
6
= 2B + 3H
2
;
2PH
3
= 2P + 3H
2
.
Растущую пленку легируют за счет подачи в реактор силана и примесе-
содержащего вещества в определенном процентном содержании в зависимо-
сти от требуемой степени легирования растущей пленки.
При использовании реакций восстановления в качестве кремнийсодер-
жащих веществ применяют тетрахлорид кремния SiCl
4
, тетрабромид кремния
SiBr
4
, трихлорсилан SiHCl
3
, дихлорсилан SiH
2
Cl
2
и другие соединения:
1200
o
C
SiCl
4
+ 2H
2
= Si + 4HCl.
1050
o
C
SiBr
4
+ 2H
2
= Si + 4HBr.
При формировании легированных слоев используют хлорид бора BCl
3
,
бромид бора BBr
3
, хлорид фосфора PCl
3
:
2BBr
3
+ 3H
2
= 2B + 6HBr;
2PCl
3
+ 3H
2
= 2P + 6HCl.
Приведенные гетерогенные реакции реализуются в технологических ус-
тановках с непрерывной подачей рабочей смеси через реактор (метод откры-
той трубы), схема одной из которых показана на рис. 33.