Вакуумная и плазменная электроника. Светцов В.И. - 114 стр.

          4 ⋅ π ⋅ e2 ⋅ n      1
    E =1−                ⋅     ν ст
                                                                    (6.11)
            me ⋅ ω 2
                        1−    eω
    где ω - угловая частота электромагнитной волны; ν - частота столкновений
электронов в плазме.
             ω2 ⋅ m              1,1 ⋅ 1013
     n пр =            или n =                                       (6.12)
            4 ⋅ π ⋅ e2               λ2
    где λ - длина волны СВЧ излучения в см.

    Такой метод определения концентрации плазмы носит название метода
отсечки. Существует и ряд других методов СВЧ-диагностики плазмы, которая
является весьма важным методом особенно при исследовании высокотемпера-
турной плазмы.
    Для исследования плазмы высокой концентрации могут быть использова-
ны монохроматические пучки видимого и инфракрасного излучений. Лазеры
используются для определения концентрации заряженных частиц в плазме ин-
терферометрическим методом. Кроме того, при исследовании плазмы находит
применение голографическая техника с лазерами в качестве источника излуче-
ния и т. д.



                                      плазма



     СВЧ
   генератор        антенна                     приемник       детектор




                    Рис.6.2. Схема СВЧ зондирования плазмы


                       6.3. Теории газоразрядной плазмы

    Основным условием существования стационарной плазмы является под-
держание постоянной во времени концентрации частиц. Баланс числа заряжен-
ных частиц определяется балансом энергии, которая поступает в плазму от
электрического поля. Часть этой энергии расходуется на ионизацию атомов

                                       114