ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
10
ческие, механические), то температура подложки выбирается достаточно
высокой.
Реактивное испарение используется не только для получения оки-
слов, но и сульфидов, нитридов и других соединений, для которых один из
компонентов (кислород, сера, азот) может содержаться в рабочем объеме
вакуумной системы в достаточно большом количестве. Подобным образом
пленки нитридов титана, циркония получают испарением соответствую-
щих металлов в присутствии азота.
Испарение из двух испарителей
При изготовлении пленочных структур используются устройства, где
два или более испарителей размещены в одном рабочем объеме. При этом
используют те же типы испарителей, что и в случае одного испарителя. Но
испарители должны разделяться не закрывающими подложку экранами
для исключения возможного взаимного загрязнения. Кроме этого, испари-
тели должны быть теплоизолированными для обеспечения независимой
регулировки температуры.
Испарение двух различных материалов из двух испарителей с после-
дующей их конденсацией на одной подложке исключает проблемы фрак-
ционирования и разложения, которые встречаются при непосредственном
испарении из одного источника большинства сплавов и соединений. При
этом возможно совместное осаждение веществ не образующих твердых
растворов или соединений. Вследствие случайного поступления атомов на
подложку в процессе испарения и их ограниченной подвижности на под-
ложке, многофазные пленки обычно состоят из однородно распределенных
частиц малого размера. Многофазность пленки в этом случае проявляется
после термообработки, вызывающей кристаллизацию составляющих плен-
ку фаз.
Основной проблемой метода является контроль скоростей осаждения
компонентов и поддержание их в определенном точном соотношении.
Скорость конденсации определяется равновесным давлением паров испа-
ряемого вещества P*(T
1
) при температуре испарителя. Для испарителя с
малой поверхностью давление паров на подложке P
r
можно выразить соот-
ношением
e
r1
2
Acosjcos θ
P=P*(T)
πr
, (13)
где A
e
– площадь испарения; ϕ, θ – углы испарения и падения молекул на
поверхность, соответственно, отсчитываемые от нормалей к соответст-
вующим поверхностям; r – расстояние от испарителя до данной точки под-
ложки; P*(T
1
) – равновесное давление паров в испарителе (рис. 1).
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 8
- 9
- 10
- 11
- 12
- …
- следующая ›
- последняя »
