Получение и исследования наноструктур. Вальднер В.О - 100 стр.

                             100

шение толщины органического слоя.
     Однако данный процесс может осложняться образованием
нелетучих слоёв полимера (его пассивацией). Это обстоятельство
намного уменьшает скорость травления или останавливает его
вовсе.

         Равномерность плазмохимического травления

     Решающим фактором, влияющим на равномерность плазмо-
химического травления, является распределение плотности плаз-
мы по объёму реактора, которое определяет равномерность обра-
зования химически-активных частиц (ХАЧ). Главной причиной
неравномерного распределения ХАЧ по объёму является амбипо-
лярная диффузия ( - это одновременное перемещение в ионизо-
ванной среде заряженных частиц обоих знаков в направлении па-
дения концентрации). Это приводит к тому, что наиболее интен-
сивная плазма сосредотачивается у стенок реактора. Факт того,
что содержание ХАЧ у стенок реактора больше, чем в объёме,
приводит к радиальной неравномерности травления подложек.
Было установлено, что для улучшения равномерности травления
следует выбирать отношение диаметра обрабатываемых пластин
к диаметру реакционно-разрядной камеры равным 1/4.
     Проблема равномерности травления в установках типа
плазменного модуля СВЧ остается не решённой. Однако, в неко-
торых случаях для обеспечения однородности плазмы, плазмен-
ный реактор оснащается специальными блоками. В этих блоках
находятся магниты, при помощи которых достигается равномер-
ное распределение плотности плазмы по всему объёму реактора.

     Представление практически полученных результатов
    Студент, освоивший теоретический материал по работе с мо-
дулем СВЧ, должен правильно объяснить ход кривых зависимо-
сти удельного сопротивления от времени обработки. А, именно,-
выход на насыщение говорит об удалении сторонних примесей и
наноразмерного переходного слоя с поверхности и стабилизации
свойств поверхности и наноразмерного слоя представленных об-