ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
21
Вопросы  
1.  Объясните   эффект  каналирования .  Какие  меры   предпринимаются  для 
подавления   эффекта   каналирования ? 
2.  В чем   причина  появления   экспоненциального  “хвоста”  при  имплантации 
разориентированных кристаллических   мишеней ? 
3.  Может  ли  координата   точки   сопряжения   экспоненциального  “хвоста”  быть  
меньше координаты   максимума концентрационного профиля? 
4.  Вывести   формулы   для  расчета   глубин   залегания  p-n  переходов  в 
приближении  двух   параметров (усеченная  гауссиана)  с  учетом   эффекта  
каналирования   при  нормировке   на дозу. 
5.  В   чем   физическая  причина  возникновения   ассиметрии  профилей   ионно-
имплантированных примесей ? 
6.  Зависит  ли  модальный  пробег   от  эффекта   каналирования   в 
разориентированных монокристаллических   мишенях ? 
7.  Вывести   формулы   для  расчета   глубин   залегания p-n  переходов  в 
приближении  двух   параметров (неусеченная  гауссиана)  с  учетом   эффекта  
каналирования   при  нормировке   на дозу. 
8.  Дайте  определение  критического  угла  каналирования . От каких   параметров 
он  зависит? 
9.  Какие  распределения ,  аппроксимирующие  асимметричные профили  ионно-
имплантированных примесей , Вы знаете ? 
10. Что   такое  коэффициент затухания ? 
11.  При  каких   условиях   в  процессе  имплантации  примесью   противоположного 
типа  по  отношению   к  исходной   примеси  в  подложке   не  формируются p-n 
переходы ? 
                                     21
                                  В опросы
1. О бъясните эф ф ект каналирования. К акие м еры пред приним аю тся д ля
   под авления эф ф екта каналирования?
2. В чем причина появления экспоненциального “х воста” при им плантации
   разориентированны х кристаллических м иш еней?
3. М ож етли коорд ината точки сопряж ения экспоненциального “х воста” бы ть
   м еньш екоорд инаты м аксим ум а концентрационного проф иля?
4. В ы вести ф орм улы д ля расчета глубин залегания p-n перех од ов в
   приближ ении д вух парам етров (усеченная гауссиана) с учетом эф ф екта
   каналирования при норм ировкена д озу.
5. В чем ф изическая причина возникновения ассим етрии проф илей ионно-
   имплантированны х прим есей?
6. Зависит ли м од альны й пробег от эф ф екта каналирования в
    разориентированны х монокристаллических м иш енях ?
7. В ы вести ф орм улы д ля расчета глубин залегания p-n перех од ов в
   приближ ении д вух парам етров (неусеченная гауссиана) с учетом эф ф екта
   каналирования при норм ировкена д озу.
8. Д айте опред еление критического угла каналирования. О ткаких парам етров
    он зависит?
9. К акие распред еления, аппроксим ирую щ ие асим м етричны е проф или ионно-
    им плантированны х прим есей, В ы знаете?
10. Ч то такоекоэф ф ициентзатух ания?
11. При каких условиях в процессе им плантации примесью противополож ного
    типа по отнош ению кисх од ной примеси в под лож ке не ф орм ирую тся p-n
    перех од ы ?
