ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
20
2.  В   приближении  четырех   параметров  рассчитать   глубины   залегания  p-n 
переходов  при  имплантации  ионами фосфора   с  энергией  40 кэВ   и  дозой      10 
мкКл/см
2
  разориентированной   кремниевой   подложки  p-типа  с  удельным 
сопротивлением  1 Ом⋅см :  
а) без   учета   каналирования ; 
б) с учетом   каналирования; 
в) с учетом   каналирования   и   нормировки   на дозу имплантации. 
Дать   сравнительную   оценку   степени  влияния   на  глубину  залегания  p-n 
переходов  эффекта   каналирования   и   нормировки   на дозу имплантации. 
3.  Кремниевая  пластина,  разориентированная  относительно  пучка   ионов, 
легируется  бором .  Поставить   численные эксперименты   по  исследованию  
зависимости   координаты   точки   сопряжения   экспоненциального  хвоста   с  
распределением   Пирсон -4 от  дозы  и энергии  имплантации  в  диапазонах : 
-  по  энергии 10÷150 кэВ ;  
-  по  дозе 10
13
÷
5·10
16
 см
-2
. 
4.  Рассчитать   и   построить   график  зависимости   координаты   точки   сопряжения  
экспоненциального  “хвоста”  с  распределением   Пирсон -4  от  дозы   в 
диапазоне 10
13
÷
5·10
16
  см
-2
  при  имплантации  кремниевой  
разориентированной   подложки   ионами фосфора  с  энергией  40 кэВ . 
5.  В   приближении  четырех   параметров  с  учетом   эффекта   каналирования   и 
нормировки   на  дозу  имплантации  рассчитать   и   построить  
концентрационный  профиль  и  глубины   залегания  p-n  переходов  при 
имплантации  разориентированной   кремниевой   подложки   марки   КЭФ4 
ионами бора   с  энергией  90 кэВ  и  дозой  5 мкКл/см
2
. 
6.  При  имплантации  ориентированной   под   углом  15°  относительно  нормали  к 
поверхности   кремниевой   пластины   ионами  фосфора  провести   численные 
эксперименты   по исследованию   зависимости   нормирующего коэффициента :  
а ) от  дозы  в диапазоне 10
13
÷
5·10
16
 см
-2
  при  энергиях  20, 40, 80 и 120 кэВ ; 
б) от  энергии в  диапазоне 10÷120 кэВ   при  дозах   10
13
, 10
14
, 10
15
 и 10
16
см
-2
. 
7.  Провести   численные  эксперименты   по  исследованию   зависимости  
нормирующего  коэффициента   при  легировании  разориентированной  
пластины  кремния   ионами бора : 
а)  от  дозы  имплантации  в  диапазоне 10
13
÷
5·10
16
 см
-2
  при  энергиях  30, 60, 
90 и 120 кэВ ; 
б) от энергии   имплантации  в  диапазоне 10÷120 кэВ   при  дозах   10
13
, 10
14
, 10
15
и 10
16
см
-2
. 
                                       20
2. В приближ ении четы рех парам етров рассчитать глубины залегания p-n
   перех од овпри им плантации ионам и ф осф ора сэнергией 40 кэВ и д озой 10
   м кК л/см 2 разориентированной крем ниевой под лож ки p-типа с уд ельны м
   сопротивлением 1 О м ⋅см :
    а) без учета каналирования;
    б) сучетом каналирования;
    в) сучетом каналирования и норм ировки на д озуим плантации.
        Д ать сравнительную оценку степени влияния на глубину залегания p-n
    перех од овэф ф екта каналирования и норм ировки на д озуим плантации.
3. К рем ниевая пластина, разориентированная относительно пучка ионов,
    легируется бором . Поставить численны е эксперим енты по исслед ованию
    зависим ости коорд инаты точки сопряж ения экспоненциального х воста с
    распред елением Пирсон-4 отд озы и энергии им плантации вд иапазонах :
    - по энергии 10÷150 кэВ ;
    - по д озе10 13 ÷ 5·1016 см -2.
4. Рассчитать и построить граф икзависим ости коорд инаты точки сопряж ения
    экспоненциального “х воста” с распред елением Пирсон-4 от д озы в
    д иапазоне 1013 ÷ 5·10 16       см -2      при им плантации крем ниевой
    разориентированной под лож ки ионам и ф осф ора сэнергией 40 кэВ .
5. В приближ ении четы рех парам етров с учетом эф ф екта каналирования и
    норм ировки      на    д озу им плантации рассчитать и построить
    концентрационны й проф иль и глубины залегания p-n перех од ов при
    им плантации разориентированной крем ниевой под лож ки м арки К Э Ф 4
    ионам и бора сэнергией 90 кэВ и д озой 5 м кК л/см 2 .
6. При имплантации ориентированной под углом 15° относительно норм али к
    поверх ности крем ниевой пластины ионам и ф осф ора провести численны е
    эксперим енты по исслед ованию зависим ости норм ирую щ его коэф ф ициента:
    а) отд озы вд иапазоне1013 ÷ 5·1016 см -2 приэнергиях 20, 40, 80 и 120 кэВ ;
    б) отэнергиивд иапазоне10÷120 кэВ при д озах 1013, 1014, 1015 и 1016 см -2.
7. Провести численны е эксперим енты по исслед ованию зависим ости
    норм ирую щ его коэф ф ициента при легировании разориентированной
    пластины крем ния ионам и бора:
    а) отд озы им плантации в д иапазоне 1013 ÷ 5·1016 см -2 при энергиях 30, 60,
       90 и120 кэВ ;
    б) отэнергии им плантации вд иапазоне10÷120 кэВ при д озах 1013 , 1014 , 1015
       и1016 см -2.
