Электрохимия полупроводников. Батенков В.А. - 17 стр.

UptoLike

Составители: 

Рубрика: 

17
Здесь
τвремя жизни неравновесных носителей заряда, т. е. время, которое в среднем
проводят пазоны, созданные светом. Следовательно, с учетом рекомбинации (R
р
= R
р
* – G
р
*)
уравнение (31) для однородного освещения полупроводника можно переписать в виде:
G
р
*R
р
* = –R
р
= dр / dt р/τ = G
р
* – (р* – р) / τ
р
, (33)
где р* и рнеравновесная и равновесная (тепловая) концентрация пазонов; р = р* – р.
Через некоторое время t
st
рекомбинация уравновесит процесс генерации пазонов светом, т. е.
в стационарных условиях: G
р
* = R
р
* и dр/dt = 0. Следовательно: р* = р + G
р
*
τ
р
(см. рис. 4, б).
Решая дифференциальное уравнение (33), получим
р*
= р + р
st
(1е
t/τ
), р = р
st
(1е
t/τ
), (34)
где р
st
стационарная концентрация избыточных пазонов при t
st
. Она равна:
р
st
= G
р
*τ
р
= ηατ
р
Ф / (hν). (35)
Аналогичные выражения получаются для избыточных электронов:
п
= п
st
(1е
t/τ
), п
st
= G
п
*τ
п
= ηατ
п
Ф / (hν). (36)
В общем случае в стационарных условиях фотопроводимость будет равна:
σ
st
*
= e(n*µ
n
+ p*µ
p
) = e[(n + п
st
)µ
n
+ (р+ р
st
)µ
p
],
σ
ф,st
= σ
st
* – σ = e(п
st
µ
n
+ р
st
µ
p
) = еηα (µ
п
τ
п
+ µ
p
τ
р
)Ф / (hν). (37)
Однако, в донорном полупроводнике обычно п
« п и поэтому п* = п. Отсюда для п-типа:
σ
ф,st
= eр
st
µ
p
= еηαµ
p
τ
р
Ф / (hν). I
ф
= σ
ф,st
ξ = еηαµ
p
τ
р
Ф ξ / (hν).(38)
При большом уровне освещения, когда
p = п » (n + p), рост фотопроводимости
описывается гиперболитической тангенсоидой, а спадгиперболическим законом.
2. Неоднородное поглощение света [8]. Рассмотрим случай, когда торец полупроводника
площадью S и толщиной образца d
»
1/α нормально и равномерно освещается постоянным
Как видно из рисунка 5, в легированном полупроводнике п-типа при его контакте с
внешней средой (слой оксида, металла, электролита) в приповерхностном слое образуется
обеднённая область пространственного заряда (ОПЗ) L
±
, толщиной до 0.001-10 мкм, и
потоком фотонов с энергией кванта hv
1
E
g
(см. рис. 5). Общая стационарная
скорость собственной генерации G(х)
пар электронов и пазонов в полупро-
воднике п-типа на расстоянии х от его
освещаемой поверхности будет описы-
ваться уравнением Бургера-Ламберта:
G(х) =
ηαΦ
o
e
α
x
. (39)
Здесь
αлинейный коэффициен
т
поглощения; ηквантовый выход;
х
глубина проникновения света в по-
лупроводник;
Φ
o
плотность поток
а
фотонов, прошедших в полупроводник:
Φ
o
= (1 – l) P
ф
/(h
ν
S), (40)
где P
ф
мощность падающего излуче-
ния, l доля потерь излучения при его
отражении от поверхности полупро-
водника и при поглощении в просвет-
ляющем или ином покрытии полупро-
водника; Sосвещаемая площадь.
h
ν
0
L
±
L
p
d
x
р
(
х
)
р
*
р
0
L
±
L
p
d
x
Рис. 5. Распределение дырок, генерированных
светом в полупроводнике
п
-типа
L
±
область пространственного заряда;
L
p
диффузионная длина дырок;
d –
толщина полупроводникового образца
     Здесь τ – время жизни неравновесных носителей заряда, т. е. время, которое в среднем
проводят пазоны, созданные светом. Следовательно, с учетом рекомбинации (Rр = Rр* – Gр*)
уравнение (31) для однородного освещения полупроводника можно переписать в виде:
     Gр* – Rр* = –Rр = d∆р / dt – ∆р/τ = Gр* – (р* – р) / τр,                         (33)
где р* и р – неравновесная и равновесная (тепловая) концентрация пазонов; ∆р = р* – р.
      Через некоторое время tst рекомбинация уравновесит процесс генерации пазонов светом, т. е.
в стационарных условиях: Gр* = Rр* и d∆р/dt = 0. Следовательно: р* = р + Gр* τр (см. рис. 4, б).
      Решая дифференциальное уравнение (33), получим
      р* = р + ∆рst (1 – е– t/τ), ∆р = ∆рst (1 – е– t/τ),                            (34)
где ∆рst – стационарная концентрация избыточных пазонов при tst. Она равна:
      ∆рst = Gр*τр = ηατрФ / (hν).                                                   (35)
      Аналогичные выражения получаются для избыточных электронов:
      ∆п = ∆пst (1 – е– t/τ), ∆пst = Gп*τп = ηατпФ / (hν).                           (36)
      В общем случае в стационарных условиях фотопроводимость будет равна:
      σst* = e(n*µn + p*µp) = e[(n + ∆пst)µn + (р+ ∆рst)µp],
      σф,st = σst* – σ = e(∆пst µn + ∆рst µp) = еηα (µпτп + µpτр)Ф / (hν).           (37)
      Однако, в донорном полупроводнике обычно ∆п « п и поэтому п* = п. Отсюда для п-типа:
      σф,st = e∆рst µp = еηαµpτрФ / (hν). Iф = σф,st ξ = еηαµpτрФ ξ / (hν).          (38)
     При большом уровне освещения, когда ∆p = ∆п » (n + p), рост фотопроводимости
описывается гиперболитической тангенсоидой, а спад – гиперболическим законом.
    2. Неоднородное поглощение света [8]. Рассмотрим случай, когда торец полупроводника
площадью S и толщиной образца d » 1/α нормально и равномерно освещается постоянным
                                                         потоком фотонов с энергией кванта hv1
                                                         ≥ ∆Eg (см. рис. 5). Общая стационарная
   hν                                                    скорость собственной генерации G(х)
                                                         пар электронов и пазонов в полупро-
                                                         воднике п-типа на расстоянии х от его
                                                         освещаемой поверхности будет описы-
               0 L±    Lp                      d x       ваться уравнением Бургера-Ламберта:

        р(х)                                                   G(х) = ηαΦoe–αx.           (39)
          р*                                                   Здесь α – линейный коэффициент
                                                         поглощения; η – квантовый выход;
                                                         х – глубина проникновения света в по-
           р                                             лупроводник; Φo – плотность потока
                                                         фотонов, прошедших в полупроводник:
               0 L±    Lp                      d x      Φo = (1 – l) Pф /(hν S),    (40)
   Рис. 5. Распределение дырок, генерированных где Pф – мощность падающего излуче-
          светом в полупроводнике п-типа          ния, l – доля потерь излучения при его
      L± – область пространственного заряда;      отражении    от поверхности полупро-
      Lp – диффузионная длина дырок;              водника и при поглощении в просвет-
      d – толщина полупроводникового образца      ляющем или ином покрытии полупро-
                                                  водника; S – освещаемая площадь.
     Как видно из рисунка 5, в легированном полупроводнике п-типа при его контакте с
внешней средой (слой оксида, металла, электролита) в приповерхностном слое образуется
обеднённая область пространственного заряда (ОПЗ) L±, толщиной до 0.001-10 мкм, и

                                                17