Наклонная ионная имплантация. Бормонтов Е.Н - 25 стр.

UptoLike

25
а)
2.25
.
10
7
2.2
.
10
7
2.15
.
10
7
2.1
.
10
7
0.4
0.2
0
m
Nfxy,()
Nm
y
Nfxy,()
Nx()
2
erfc
a'x()y
2R't
erfc
a''x()y
2R't
:=
Nx()Nme
xRpcos θ()⋅− ()
2
2R
2
:=
Nm
Q
2π R
:=
xRp Rp+:=a''x()axtan θ
()
+:=a'x()a dx+()tan θ
()
+:=∆ R't Rtsin θ
()
:=
R Rp
2
cos θ
()
2
1
2
Rt
2
sin θ
()
2
⋅+:=
Rt1.19410
6
× cm:=∆ Rp1.82510
6
× cm:=Rp5.80510
6
× cm:=
Q110
14
cm
2
:=a510
5
cm:=d1.510
4
cm: 10
π
180
:=Ni510
14
cm
3
:=
Рис.10. График распределения нормированного бокового профиля вблизи края
маски толщиной 1.5 мкм при наклонной имплантации в щель шириной 5 мкм под
углом 10º к нормали с образованием теневого участка ионов сурьмы с энергией
100 кэВ и дозой 10
14
см
-2
                                                                                  25

а)
                  14        −3                       π                                 −4                          −5                  14   −2
 Ni := 5 ⋅ 10 cm                     θ := 10 ⋅                   d := 1.5 ⋅ 10 cm                   a := 5 ⋅ 10 cm Q := 1 ⋅ 10 cm
                                                 180
                             −6                                       −6                                      −6
 Rp := 5.805 × 10 cm ∆Rp := 1.825 × 10 cm                                             ∆Rt := 1.194 × 10 cm


     ∆R := ∆Rp ⋅ cos ( θ ) +                       ∆Rt ⋅ sin ( θ )
                       2                 2     1         2               2
                                               2
 ∆R't := ∆Rt ⋅ sin ( θ )                a'( x) := −a + ( d + x) ⋅ tan ( θ )                    a''( x) := a + x ⋅ tan ( θ )       x := Rp + ∆Rp
                                                                                       2
                   Q                                             ( x− Rp ⋅cos( θ ) )
     Nm :=                                                   −
                                                                              2
                                                                       2⋅∆R
               2π ⋅ ∆R                N( x) := Nm ⋅ e


                                       ⋅  erfc
                           − N( x)                   a'( x) − y     a''( x) − y  
      Nf( x, y) :=                                           − erfc             
                                 2               2 ⋅ ∆R't         2 ⋅ ∆R't  
                             0




                           0.2

         Nf( x , y)
             Nm

                           0.4




                                                 2.25 .10                    2.2 .10               2.15 .10             2.1 .10
                                                             7                             7                  7                   7

                                                                                       y
                                                                                  m

 Рис.10. Граф ик распределен ия н ормирован н огобок овогопроф иля вблизи к рая
маск и толщ ин ой 1.5 мк м при н ак лон н ой имплан тации в щ ель ш ирин ой 5 мк м под
 углом 10ºк н ормали собразован ием тен евого участк аион ов сурь мы сэ н ергией
                             100 к э В и дозой 1014 см-2