Наклонная ионная имплантация. Бормонтов Е.Н - 29 стр.

UptoLike

29
ЛИТЕРАТУРА
1. Асессоров В . В . Математические модели распределений ионно-
имплантированных примесей / В .В . Асессоров. Воронеж : Изд-во Воронеж .
ун - та, 2002. 100 с.
2. Бубенников А . Н . Физико-технологическое проектирование биполярных
элементов кремниевых БИС / А .Н . Бубенников, А .Д . Садовников. М .: Радио и
связь, 1991. 288 с.
3. Красников Г . Я . Конструктивно-технологические особенности субмикронных
МОП-транзисторов / Г.Я . Красников : В 2-х кн. М .: Техносфера, 2002. - Ч.1. -
416 с.
4. МОП-СБИС. Моделирование элементов и технологических процессов/ Под ред.
П.Антонетти, Д .Антониадиса, Д . Даттона, У . Оулдхема. М .: Радио и связь,
5. Технология СБИС / Под ред. С. Зи : В 2-х кн. М .: Мир, 1986. Кн.1. 404 с.;
Кн.2. 416 с.
                                                29




                                        ЛИ Т Е РА Т У РА

1.   А сессоров       В .В .    М атематическ ие модели             распределен ий       ион н о-
     имплан тирован н ы х примесей / В .В . А сессоров. – В орон еж : И зд-во В орон еж .
     ун -та, 2002. – 100 с.
2.   Бубен н ик ов А .Н . Ф изик о-техн ологическ ое проек тирован ие биполярн ы х
     э лемен тов к ремн иевы х БИ С / А .Н . Бубен н ик ов, А .Д . Садовн ик ов. – М .: Радио и
     связь , 1991. – 288 с.
3.   К расн ик ов Г.Я . К он струк тивн о-техн ологическ ие особен н ости субмик рон н ы х
     М О П-тран зисторов / Г.Я . К расн ик ов: В 2-х к н . – М .: Т ехн осф ера, 2002. - Ч.1. -
     416 с.
4.   М О П-СБИ С. М оделирован ие э лемен тов и техн ологическ их процессов/ Под ред.
     П.А н тон етти, Д .А н тон иадиса, Д . Д аттон а, У . О улдхема. – М .: Радиои связь ,
5.   Т ехн ология СБИ С / Под ред. С. Зи : В 2-х к н . – М .: М ир, 1986. – К н .1. – 404 с.;
     К н .2. – 416 с.