Диффузионное перераспределение ионно-имплантированных примесей. Быкадорова Г.В - 12 стр.

                                                                    12
          По определению , ф у нкция распределения h(x) есть

                                                                         N (x )
                                                              h( x ) =          ,
                                                                          N0

где       N0             определяется                    из        у словия         нормировки      на   дозу
      ∞                  ∞

Q = ∫ N ( x )dx = N 0 ∫ h( x )dx .
      0                   0

          Т огдараспределениеконцентрации бу детиметь вид

                                                                   b1                             
                                                                      + 2a
                                                  1
                                                                    b2               2b2 x ′ + b1 
          N ( x ) = N 0 b2 x ′ 2 + b1 x ′ + b0   2 b2   exp  −                arctg                .    (5)
                                                                  4b0 b2 − b1
                                                                             2
                                                                                     4b0 b2 − b1 2 

                                                                                                  
                                                                                                  

       К онцентрационны й проф иль в области отрицатель ного градиента
имеет экспоненциаль ны й характер. Э тот у часток полу чил название
экспоненциаль ного "хвоста", а его наличие у казы вает на прису тствие
эф ф ектаканалирования (рис.2).
       В этом слу чае распределение ионно-имплантированной примеси
аппроксимиру ется вследу ю щ ем виде

                                          N ( x ),              0 ≤ x ≤ R0 ;
                              N ' ( x) =                −
                                                           x − R0                                         (6)
                                           N ( R0 ) ⋅ e λ ,          x > R0 ,

где N(x) - лю бое из известны х распределений; R0 - координата точки
сопряж ения заданного распределения с экспоненциаль ны м "хвостом",
причем R0>Rm (Rm - координата точки максиму ма концентрации); λ -
характеристическая длинаэкспоненциаль ного "хвоста".
     А нализ эксперименталь ны х данны х и численны е расчеты
показы ваю т, что впервом приближ ении величина λ не зависит от дозы и
энергии имплантации. Значениекоординаты R0 зависитотдозы и энергии
ионови мож етбы ть найдено из соотношения

                                                                  N (R m )
                                                         F* =              ,                              (7)
                                                                  N (R 0 )

которое су щ ественно зависит толь ко от дозы для заданной комбинации
ион-мишень . Значения λ и параметраF* для ионовбора и ф осф ора при их
внедрении вмонокристаллический кремний приведены втабл. 1.