Триботехническое материаловедение и триботехнология. Денисова Н.Е - 152 стр.

      Смещение зоны объемного заряда в глубь покрытия переводит
процесс в микродуговой режим, при котором микроплазменные разряды не
достигают границы металл-оксид. Рост оксидного слоя осуществляется за
счет диффузии металла через слои оксида в зону объемного заряда и
встречного движения частиц электролита под действием поля в зону
разряда.
      Скорость роста внутренних (до зоны объемного заряда) и внешних
слоев покрытия различается. С большей скоростью обычно наращиваются
внешние слои. Это приводит к изменению как вентильных свойств
покрытий (вентильный эффект – проводимость в одном направлении,
например на границе металл-электролит на несколько порядков выше, чем
в обратном), так и условий для теплоотвода из зоны микроплазменного
разряда. Следствием этих процессов может явиться тепловой пробой зоны
объемного заряда, сопровождающийся разрушением покрытия зачастую на
всю толщину. Процесс переходит в дуговой режим.
      Для повышения износостойкости покрытий следует проводить
процесс в микродуговом режиме, обеспечивая рост внутренних слоев
покрытия и включая в электролит частицы, способные образовывать
оксиды с низким коэффициентом теплопроводности или оксиды,
смешанные с оксидами материала основы.
       Технология и параметры анодного оксидирования:
      Изделие или заготовку из алюминия или его сплавов помещают в
ванну с электролитом и подводят ток на электроды, один из которых
закреплен на заготовке, другой – на внутренней поверхности ванны. При
взаимодействии электрического тока, электролита и поверхностного слоя
заготовки происходит окисление алюминия с образованием оксида Аl2O3.
Оксидирование проводят в кислых, нейтральных и щелочных растворах,
что обеспечивает разные свойства покрытий, сообразно природе
электролита. Прочие условия его получения (концентрация раствора
электролита, напряжение, вид и плотность тока, температура и
продолжительность процесса), условия промывки, консервация и
дополнительная обработка позволяют их варьировать. На рисунке 5.4
показано влияние продолжительности процесса (t) на толщину покрытия
(h), на котором выделены характерные области анодного процесса: 1 –
анодное оксидирование в безыскровом режиме; 2 – искровое
оксидирование; 3 – микродуговое оксидирование; 4 – дуговое
оксидирование. Наиболее интенсивный рост толщины покрытия
наблюдается на 2 и 3 этапах процесса оксидирования.