Вакуумно-плазменные процессы и технологии. Ефремов А.М - 138 стр.

UptoLike

138
потерь в скорости процесса. В качестве причин роста скорости
взаимодействия при варьировании начального состава смеси можно
рассматривать следующие факторы:
Изменение скорости объемной генерации и концентрации атомов
хлора. Этот механизм может реализоваться как при увеличении
скорости диссоциации молекул Cl
2
электронным ударом при
изменении электрофизических параметров разряда, так и при
появлении каналов ступенчатой диссоциации за счет взаимодействия
с возбужденными частицами газов-добавок.
Влияние состава смеси на кинетические характеристики
гетерогенной рекомбинации атомов хлора.
Влияние состава смеси на гетерогенные стадии взаимодействия
активных частиц плазмы с обрабатываемым материалом.
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0
0.0
0.4
0.8
1.2
1
2
3
R, 10
18
см
-2
сек
-1
δ
Ar, N2, H2
, отн. ед.
0.0 0.2 0.4 0.6 0.8 1.0
0.0
0.5
1.0
1.5
1
2
3
R, 10
19
см
-2
сек
-1
δ
Ar
Рис. 3.6.1. Зависимость скорости
травления Cu от доли аргона в
исходной смеси Cl
2
/Ar (100 Па, 18
мА): 1 553 К; 2 573 К; 3 593 K
Рис. 3.6.2. Зависимости скоростей
травления GaAs от начального
состава смеси (100 Па, 18 мА, 373
К): 1 Cl
2
/Ar; 2 Cl
2
/N
2
; 3
Cl
2
/H
2
При исследовании параметров и механизмов плазмохимических
процессов было найдено, что варьирование начального состава смесей
Cl
2
/Ar, Cl
2
/N
2
, Cl
2
/O
2
и Cl
2
/H
2
при постоянных внешних параметрах
разряда вызывает изменения электрофизических параметров плазмы,
сопровождающиеся обогащением ФРЭЭ быстрыми электронами,
ростом их средней энергии, скорости дрейфа и коэффициентов
скоростей большинства пороговых элементарных процессов. В
сочетании с изменением концентрации электронов в разряде для смесей
Cl
2
/Ar и Сl
2
/N
2
увеличение констант скоростей пороговых элементарных
потерь в скорости процесса. В качестве причин роста скорости
взаимодействия при варьировании начального состава смеси можно
рассматривать следующие факторы:
• Изменение скорости объемной генерации и концентрации атомов
   хлора. Этот механизм может реализоваться как при увеличении
   скорости диссоциации молекул Cl2 электронным ударом при
   изменении электрофизических параметров разряда, так и при
   появлении каналов ступенчатой диссоциации за счет взаимодействия
   с возбужденными частицами газов-добавок.
• Влияние состава смеси на кинетические характеристики
   гетерогенной рекомбинации атомов хлора.
• Влияние состава смеси на гетерогенные стадии взаимодействия
   активных частиц плазмы с обрабатываемым материалом.
            18    -2    -1                                                   19    -2   -1
      R, 10 см сек                                               1.5   R, 10 см сек

1.2                                                                          1
                                                     1
                                                                             2
                                                     2
                                                                             3
                                                     3
                                                                 1.0
0.8


                                                                 0.5
0.4


0.0                                                              0.0
      0.0        0.2         0.4    0.6        0.8       1.0           0.0        0.2        0.4         0.6   0.8   1.0
                       δAr, N2, H2, отн. ед.                                                       δAr



Рис. 3.6.1. Зависимость скорости                                 Рис. 3.6.2. Зависимости скоростей
травления Cu от доли аргона в                                    травления GaAs от начального
исходной смеси Cl2/Ar (100 Па, 18                                состава смеси (100 Па, 18 мА, 373
мА): 1 – 553 К; 2 – 573 К; 3 – 593 K                             К): 1 – Cl2/Ar; 2 – Cl2/N2 ; 3 –
                                                                 Cl2/H2

     При исследовании параметров и механизмов плазмохимических
процессов было найдено, что варьирование начального состава смесей
Cl2/Ar, Cl2/N2, Cl2/O2 и Cl2/H2 при постоянных внешних параметрах
разряда вызывает изменения электрофизических параметров плазмы,
сопровождающиеся обогащением ФРЭЭ быстрыми электронами,
ростом их средней энергии, скорости дрейфа и коэффициентов
скоростей большинства пороговых элементарных процессов. В
сочетании с изменением концентрации электронов в разряде для смесей
Cl2/Ar и Сl2/N2 увеличение констант скоростей пороговых элементарных
                                                               138