ВУЗ:
Составители:
15
8. Моделирование полупроводниковых приборов и технологиче-
ских процессов. Последние достижения. – М. : Радио и связь, 1989. –
289 с.
9. МОП – СБИС. Моделирование элементов и технологических
процессов. – М. : Радио и связь, 1988. – 496 с.
10. Паометс, Б.Т. Расчёт профиля распределения бора при много-
этапной диффузии в окислительных средах – Электронная техника.
Сер. 2. Полупроводниковые приборы / Б.Т. Паометс. – 1978. – Вып. 3
(121) – C. 41 – 48.
11. Пичугин, И.Г. Технология полупроводниковых приборов /
И.Г. Пичугин, Ю.Н. Таиров. – М. : Высшая школа, 1984. – 288 с.
12. Плис, А.И. Лабораторный практикум по высшей математике /
А.И. Плис, Н.А. Сливина. – М. : Высшая школа, 1994. – 416 с.
13. Технология СБИС : в 2-х кн. / под ред. Зи С. – М. : Мир, 1986. –
Т. 1. – 404 с. ; Т. 2. – 453 с.
14. Черняев, В.Н. Технология производства интегральных микро-
схем и микропроцессоров / В.Н. Черняев. – М. : Радио и связь, 1987. –
464 с.
15. Королев, А.П. Автоматизация технологического проектиро-
вания РЭС / А.П. Королев, С.Н. Баршутин. – Тамбов : ТГТУ, 2004. –
144 с.
