Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 100 стр.

UptoLike

Рубрика: 

100
На
рис
. 2.14
показаны
рассчитанные
зависимости
относительной
толщины
напыляемого
слоя
по
радиусу
(
ρ
)
для
некоторых
значений
нормированной
высоты
h
.
Расстояние
между
осями
вращения
r
=0,5.
X
X'
Y
Y'
Z, Z'
Z''
r
0
0'
0''
A
B
a
h
φ+φ'
θ
ψ+ψ'
P
ρ
Рис
. 2.13.
К
расчету
толщины
слоя
для
плоской
подложки
,
совершающей
двойное
вращение
При
планетарном
движении
подложки
,
в
отличие
от
простого
вращения
,
распределение
толщины
напыляемого
слоя
более
равномерное
.
Характер
кривой
и
абсолютное
значение
изменения
толщины
также
слабее
изменяются
с
изменением
параметра
высоты
H
.
Оптимальной
является
относительная
высота
h
(1,0–1,1).
При
этом
максимальное
изменение
толщины
(
ρ
)
в
диапазоне
ρ
от
0
до
0,4
составляет
менее
1%.
При
возрастании
высоты
h
кривые
функции
толщины
(
ρ
)
сближаются
и
стремятся
к
некоторому
одинаковому
распределению
.