Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 101 стр.

UptoLike

Рубрика: 

101
Рис
. 2.14.
Распределение
толщины
пленки
по
радиусу
подложки
при
r
=0,5
для
различных
значений
h
Кроме
расчета
распределения
толщины
пленки
по
радиусу
подложки
,
практический
интерес
представляет
определение
оптимальной
геометрии
оснастки
,
обеспечивающей
наилучшую
равномерность
получаемых
слоев
.
Так
же
,
как
и
в
предыдущем
случае
,
критерием
неоднородности
выберем
минимум
вариации
толщины
пленки
:
[
]
[
]
),,0(
),,(min),,(max
),(
rh
rhrh
rhV
ii
=
ρ
ρ
, (2.5)
где
ρ
i
принимает
значения
от
0
до
ρ
.
Трехмерные
изображения
функции
вида
V(h, r)
при
ρ
=0,3
и
ρ
=0,6
представлены
на
рис
. 2.15.
Хорошо
заметны
две
области
минимальных
значений
,
при
которых
функция
отклонения
толщины
V(h, r)
минимальна
.
Эти
области
минимального
отклонения
толщины
располагаются
вдоль
некоторых
кривых
,
причем
параметры
долин
в
координатах
(h, r)
будут
различны
для
разных
значений
радиуса
подложки
ρ
.
h=1
h=1.1
h=1.2
h=1.3
h=2.0
h=1.4
h=1.8
ρ
(ρ)