Составители:
Рубрика:
102
Первая
долина
с
меньшими
значениями
h
и
r
соответствует
более
компактному
планетарному
механизму
,
вторая
–
подразумевает
большие
размеры
устройства
.
Области
расширяются
с
ростом
высоты
h
и
,
как
следствие
,
функция
V(h,r)
отклонения
толщины
,
становится
более
устойчивой
к
малым
вариациям
параметров
h
и
r
,
а
минимальное
значение
V(h,r)
уменьшается
с
ростом
h.
Кроме
этого
,
как
показывают
расчёты
,
распределение
толщины
∆
(
ρ
)
и
её
равномерность
при
больших
относительных
высотах
h
более
устойчива
к
изменению
диаграммы
а) б)
Рис
. 2.15.
Функция
отклонения
толщины
V(h, r)
а
)
ρ
=0,3;
б
)
ρ
=0,6
направленности
тигля
.
С
этой
точки
зрения
более
предпочтительным
является
использование
геометрической
схемы
напыления
с
относительными
высотами
большими
h
=1,8,
если
,
конечно
,
позволяют
размеры
вакуумной
камеры
.
2.4. Методы контроля толщин пленок
Для
получения
высококачественных
интерференционных
покрытий
с
заранее
заданными
и
воспроизводимыми
параметрами
необходимо
строго
контролировать
процесс
осаждения
.
Если
средства
и
методы
контроля
таких
параметров
,
как
температура
,
степень
разряжения
,
чистота
и
однородность
химического
состава
испаряемого
материала
,
взаимное
расположение
испарителя
и
подложки
,
достаточно
хорошо
известны
и
обеспечивают
необходимую
точность
измерения
,
то
измерение
толщины
пленки
в
процессе
ее
напыления
представляет
значительно
более
трудную
задачу
.
На
практике
существует
множество
методов
измерения
толщины
пленок
,
основанных
на
различных
физических
принципах
.
Из
наиболее
r
h
V(h,r)
V(H, r)
h
r
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 100
- 101
- 102
- 103
- 104
- …
- следующая ›
- последняя »
