Проектирование, изготовление и исследование интерференционных покрытий. Котликов Е.Н - 76 стр.

UptoLike

Рубрика: 

76
(
дуговой
или
с
осцилляцией
электронов
)
разряд
.
Принципиальная
схема
установки
приведена
на
рисунке
2..
1
2
3
4
5
1
6
7
Инертный газ
Реактивный газ
Рис
. 2.1.
Схема
установки
для
нанесения
покрытий
катодным
распылением
:
1 –
камера
; 2 –
катод
; 3 –
заземленный
экран
;
4
заслонка
;
5
подложка
;
6
заземленный
анод
;
7
резистивный
нагреватель
подложки
Метод
осуществляется
следующим
образом
.
Вакуумный
объем
,
содержащий
анод
и
катод
,
откачивают
до
давления
10
-4
Па
,
после
чего
производят
напуск
инертного
газа
(
обычно
это
Ar
при
давлении
(1-10)
Па
).
Для
зажигания
тлеющего
разряда
между
катодом
и
анодом
подается
высокое
напряжение
(1-10)
кВ
.
Положительные
ионы
инертного
газа
,
источником
которого
является
плазма
тлеющего
разряда
,
ускоряются
в
электрическом
поле
и
бомбардируют
катод
,
вызывая
его
распыление
.
Распыленные
атомы
попадают
на
подложку
и
оседают
в
виде
тонкой
пленки
[5].
Механизм
катодного
распыления
достаточно
сложен
и
неоднозначен
.
В
основном
процесс
распыления
состоит
в
том
,
то
ионы
присутствующего
газа
при
столкновении
с
катодом
(
мишенью
)
передают
атомам
свою
энергию
,
и
те
покидают
катод
.
Вылетающие
атомы
катода
могут
реагировать
с
остатками
активного
газа
(
если
в
качестве
последнего
используются
не
инертные
газы
,
такие
как
кислород
или
азот
).
При
попадании
на
анод
они
внедряются
в
него
и
остаются
на
нем
.