Составители:
Рубрика:
79
осаждаются
на
подложке
,
расположенной
параллельно
мишени
.
В
условиях
пониженных
давлений
(1,33
·
10
-2
)
Па
необходимая
плотность
тока
обеспечивается
за
счет
термоэлектронной
эмиссии
и
направленного
вдоль
оси
разряда
магнитного
поля
,
напряженностью
(8000-24000)
А
/
м
.
В
триодных
системах
,
реализуемых
на
постоянном
или
высокочастотном
напряжении
,
скорость
осаждения
слоя
регулируется
варьированием
температуры
катода
,
давления
инертного
газа
и
потенциала
мишени
;
технологические
скорости
получения
слоев
диэлектриков
достигают
(0,09-0,7)
нм
/
с
,
а
металлов
– (2-12)
нм
/
с
.
Ионно
-
плазменные
методы
распыления
позволяют
на
подложке
получать
соединения
различной
природы
.
При
подаче
в
камеру
активных
газов
(
азота
,
кислорода
,
окиси
углерода
,
метана
,
сернистого
ангидрида
и
др
.)
можно
в
зависимости
от
парциального
давления
получать
либо
твердые
растворы
металла
с
соответствующим
элементом
,
либо
химические
соединения
(
нитриды
,
окислы
,
карбонаты
,
сульфиды
и
др
.).
Такой
метод
распыления
получил
название
реактивного
катодного
распыления
.
В
настоящее
время
процессы
высокочастотного
распыления
используются
не
только
для
получения
покрытий
,
но
и
для
селективного
ионного
травления
,
получения
заданного
рельефа
поверхности
.
Методом
реактивного
катодного
распыления
наносят
пленки
TiO
2
, Ta
2
O
5
,
HfO
2
, ZrO
2
, Nb
2
O
5
, TiN
и
многие
другие
.
Показатели
преломления
имеют
высокие
значения
,
близкие
к
монокристаллам
данного
вещества
,
но
в
сильной
степени
определяются
режимами
напыления
.
Особенно
сильно
сказывается
режим
на
нанесения
пленок
TiO
2
, Ta
2
O
5
, HfO
2
,
и
значительно
меньше
проявляется
эта
зависимость
у
пленок
ZrO
2
, Nb
2
O
5
и
SiO
2
.
Для
каждого
металла
выбирается
свой
оптимальный
режим
,
определяемый
напряжением
и
плотностью
тока
,
скоростью
роста
пленок
,
составом
остаточных
газов
,
температурой
подложки
и
т
.
д
.
Наиболее
высокие
показатели
преломления
имеют
пленки
,
полученные
при
высоких
(
до
750
О
С
для
кварца
)
температурах
подложек
.
Снижение
температуры
до
200
О
С
приводит
к
снижению
показателя
преломления
.
Для
получения
равнотолщинных
пленок
на
плоских
деталях
необходимы
катоды
,
на
(20-30) %
превышающие
размеры
подложек
.
К
сожалению
,
получение
равнотолщинных
пленок
на
детали
сложной
формы
или
большого
размера
этим
методом
затруднительно
.
Для
получения
равномерных
по
толщине
покрытий
рекомендуется
подбирать
поверхность
катода
и
детали
одинаковой
формы
и
располагать
их
параллельно
.
В
процессе
распыления
можно
вращать
и
перемещать
катоды
и
подложку
,
а
также
использовать
различные
маски
.
Естественно
все
это
затрудняет
изготовление
покрытий
с
одинаковой
толщиной
по
всей
поверхности
.
Методом
реактивного
катодного
распыления
можно
наносить
слои
из
смесей
двух
и
более
окислов
.
Для
этого
используют
мозаичные
катоды
,
составленные
из
различных
материалов
или
из
сплавов
.
Преимущественное
испарение
одного
металла
достигается
выбором
режима
.
Лучшие
результаты
дает
использование
двух
катодов
,
расположенных
отдельно
на
расстоянии
друг
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 77
- 78
- 79
- 80
- 81
- …
- следующая ›
- последняя »
