Составители:
Рубрика:
80
от
друга
.
Мишень
в
этом
случае
перемещается
от
одного
катода
к
другому
.
Для
напыления
таких
пленок
как
Si, SiO, SiO
2
достаточно
одного
катода
из
кремния
и
смены
состава
остаточного
газа
(Ar: Ar+O
2
)
и
режимов
напыления
.
Контроль
толщины
напыляемых
слоев
проводится
или
по
времени
распыления
,
или
спектрофотометрическими
методами
.
Однако
их
использование
затруднено
вследствие
того
,
что
катод
непрозрачен
и
расположен
недалеко
от
анода
.
Реально
возможен
контроль
по
отражению
при
достаточно
больших
углах
падения
.
Катодным
распылением
получают
просветляющие
,
зеркальные
и
светоделительные
покрытия
,
преимущественно
в
ультрафиолетовой
и
видимой
областях
спектра
.
Одной
из
причин
,
ограничивающих
изготовление
покрытий
для
инфракрасной
области
,
где
требуются
сравнительно
более
толстые
слои
,
является
малая
скорость
осаждения
пленок
и
,
соответственно
,
большие
временные
затраты
.
Так
,
например
,
для
ионноплазменного
осаждения
слоя
диэлектрика
толщиной
(1-2)
мкм
потребуется
несколько
часов
.
Преимущество
метода
катодного
испарения
заключается
в
возможности
получения
пленок
из
тугоплавких
окислов
металлов
с
высокой
механической
и
химической
стойкостью
покрытий
,
хорошая
адгезия
пленок
.
В
частности
,
пленки
нитрида
титана
используются
как
упрочняющие
покрытия
на
режущих
инструментах
и
протезах
.
К
недостаткам
следует
отнести
трудность
изготовления
катодов
большого
размера
,
соответственно
,
трудность
изготовления
покрытия
на
больших
деталях
,
затруднение
контроля
толщины
пленок
в
процессе
их
изготовления
,
малая
скорость
осаждения
пленок
.
2.2. Экспериментальное оборудование для изготовления
оптических пленок методами термического напыления
Методы
термического
(
резистивного
и
электронно
-
лучевого
)
испарения
широко
используются
для
получения
оптических
покрытий
.
Основное
достоинство
методов
–
их
универсальность
.
На
однотипном
вакуумном
оборудовании
имеется
возможность
получать
однородные
слои
металлов
,
сплавов
,
полупроводников
и
диэлектриков
различной
толщины
.
Вакуумное
оборудование
,
а
также
основные
технологические
подходы
,
которые
используются
при
термическом
осаждении
тонких
пленок
,
представлены
в
ряде
работ
,
указанных
в
конце
этой
главы
.
При
термическом
испарении
пленкообразующее
вещество
нагревается
в
вакуумной
камере
до
температуры
,
при
которой
происходит
его
интенсивное
испарение
в
условиях
высокого
вакуума
.
Это
соответствует
давлению
насыщенных
паров
порядка
1
Па
.
Обычно
температуру
,
при
которой
давление
насыщенных
паров
составляет
1,33
Па
,
называют
условной
температурой
Т
Р
.
Испаряемое
вещество
оседает
на
подложках
и
создает
оптическую
пленку
.
Для
создания
качественной
пленки
молекулы
испаряемого
вещества
должны
распространяться
прямолинейно
,
т
.
е
.
не
испытывать
соударений
с
молекулами
остаточных
газов
в
вакууме
и
не
рассеиваться
.
Средняя
длина
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 78
- 79
- 80
- 81
- 82
- …
- следующая ›
- последняя »
