Технология материалов и изделий электронной техники. Кротова Г.Д - 52 стр.

UptoLike

52
поля требуемой конфигурации. В качестве источников магнитного поля
чаще всего применяются постоянные магниты на основе бариево-
стронциевых ферритов, сплавов кобальта с редкоземельными элементами.
У этих материалов высокая коэрцитивная сила и остаточная индукция; они
могут длительно сохранять эти параметры в нормальных условиях
распыления. Ферритовые магниты не подвержены коррозии, что позволяет
располагать их внутри водоохлаждаемого катодного узла. Кроме
постоянных магнитов применяют и электромагниты, но значительно реже.
Необходимость дополнительного сильноточного источника для питания
обмоток электромагнита, высокие требования к надежности электрической
изоляции, усложняющие конструкцию катодного узла, и некоторые другие
факторы приводят к тому, что в промышленных установках для осаждения
пленок с помощью МРС предпочитают использовать постоянные магниты.
В нашей лаборатории получение пленок методом магнетронного
распыления производится на установке, схема которой представлена на
рис. 14.
Принципиальная схема и описание установки
Магнетронная распылительная система (рис.14) смонтирована на
металлическом фланце (7), соединенном с вакуумной системой
трубопроводом. Распыляемая мишень (катод) (6) толщиной 10 мм и
диаметром рабочей части 50 мм изготовлена из меди вакуумной плавки и
закрепляется на корпусе магнетрона (9) через резиновое уплотнение
прижимным фланцем. Постоянное магнитное поле создается магнитным
блоком, состоящим из центрального (8) и периферийных (5) постоянных
магнитов, закрепленных на основании блока (10), изготовленного из
магнитомягкого материала.
поля требуемой конфигурации. В качестве источников магнитного поля
чаще всего применяются постоянные магниты на основе бариево-
стронциевых ферритов, сплавов кобальта с редкоземельными элементами.
У этих материалов высокая коэрцитивная сила и остаточная индукция; они
могут длительно сохранять эти параметры в нормальных условиях
распыления. Ферритовые магниты не подвержены коррозии, что позволяет
располагать   их    внутри   водоохлаждаемого     катодного   узла.   Кроме
постоянных магнитов применяют и электромагниты, но значительно реже.
Необходимость дополнительного сильноточного источника для питания
обмоток электромагнита, высокие требования к надежности электрической
изоляции, усложняющие конструкцию катодного узла, и некоторые другие
факторы приводят к тому, что в промышленных установках для осаждения
пленок с помощью МРС предпочитают использовать постоянные магниты.


      В нашей лаборатории получение пленок методом магнетронного
распыления производится на установке, схема которой представлена на
рис. 14.


              Принципиальная схема и описание установки
      Магнетронная распылительная система (рис.14) смонтирована          на
металлическом      фланце    (7),   соединенном   с   вакуумной   системой
трубопроводом. Распыляемая мишень (катод) (6) толщиной 10 мм и
диаметром рабочей части 50 мм изготовлена из меди вакуумной плавки и
закрепляется на корпусе магнетрона (9) через резиновое уплотнение
прижимным фланцем. Постоянное магнитное поле создается магнитным
блоком, состоящим из центрального (8) и периферийных (5) постоянных
магнитов, закрепленных на основании блока (10), изготовленного из
магнитомягкого материала.



                                      52