ВУЗ:
Составители:
- 137 -
3.2. Спонтанно-вынужденное рассеяние света в
кристаллах при воздействии СИ
Параметрическое рассеяние (ПР) света представляет
собой распад в нелинейной среде фотона накачки на два
других фотона, при этом могут быть определены оптиче-
ские характеристики вещества. Сравнение интенсивностей
спонтанного и спонтанно-вынужденного ПР позволяет
произвести абсолютное (без использования эталонов) из-
мерение яркости излучения.
Рассмотрим возможности для спектроскопии ПР и мет-
рологических применений, в частности уникальную воз-
можность безэталонного измерения постоянной тонкой
структуры ее, возникающие в том случае, когда на кри-
сталл наряду с накачкой падает синхротронное излучение
[74, 81].
Интегральная интенсивность ПР составляет обычно
около 10
-9
интенсивности накачки. Спектральная плот-
ность мощности на частоте ω
1
равна:
,
4
2
4
2
2
3
1
2
1
lW
nc
W
н
нн
χ
ω
ωωπ
ω
h
=
(3.7)
где ω
1
, ω
2
— частоты вторичных фотонов; χ — квадра-
тичная восприимчивость; W
н
— мощность накачки; l —
длина кристалла; ω
н
— частота излучения накачки; n
н
—
показатель преломления на частоте ω
н
.
Частотно-угловое распределение ПР определяется зако-
нами сохранения импульса и энергии
k
н
= k
1
+ k
2
; ω
н
= ω
1
+ ω
2
(3.8)
для участвующих в ПР фотонов. Таким образом, исследо-
вание спектрально-углового распределения интенсивности
ПР позволяет одновременно определить дисперсию дейст-
вительной и мнимой частей линейной восприимчивости и
квадратичную восприимчивость кристалла.
3.2. Спонтанно-вынужденное рассеяние света в кристаллах при воздействии СИ Параметрическое рассеяние (ПР) света представляет собой распад в нелинейной среде фотона накачки на два других фотона, при этом могут быть определены оптиче- ские характеристики вещества. Сравнение интенсивностей спонтанного и спонтанно-вынужденного ПР позволяет произвести абсолютное (без использования эталонов) из- мерение яркости излучения. Рассмотрим возможности для спектроскопии ПР и мет- рологических применений, в частности уникальную воз- можность безэталонного измерения постоянной тонкой структуры ее, возникающие в том случае, когда на кри- сталл наряду с накачкой падает синхротронное излучение [74, 81]. Интегральная интенсивность ПР составляет обычно около 10-9 интенсивности накачки. Спектральная плот- ность мощности на частоте ω1 равна: 4π 2hω13ω22 2 Wω1 = χ Wнl , (3.7) c 4 nнωн где ω1, ω2 — частоты вторичных фотонов; χ — квадра- тичная восприимчивость; Wн — мощность накачки; l — длина кристалла; ωн — частота излучения накачки; nн — показатель преломления на частоте ωн. Частотно-угловое распределение ПР определяется зако- нами сохранения импульса и энергии kн = k1 + k2; ωн = ω1 + ω2 (3.8) для участвующих в ПР фотонов. Таким образом, исследо- вание спектрально-углового распределения интенсивности ПР позволяет одновременно определить дисперсию дейст- вительной и мнимой частей линейной восприимчивости и квадратичную восприимчивость кристалла. - 137 -
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 136
- 137
- 138
- 139
- 140
- …
- следующая ›
- последняя »