ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
24
позволило формировать пучки с током ~10 А. Эта модификация
называется дуопигатроном. Относительно прост плазменный эмиттер с
большой поверхностью в ИИ без внешнего магнитного поля (ИБМ).
Плазма создаѐтся в ГРК с помощью диффузного разряда низкого
давления между распределѐнным катодом в виде большого количества
накаливаемых нитей и анодным фланцем. Размеры эмиссионной
поверхности достигают 12х50 см
2
с хорошей однородностью эмиссии.
Величина тока пучка, формируемого многоапертурной ИОС, более 100
А. Недостаточные энергетическая и газовая эффективности привели к
созданию ИИ с периферийным магнитным полем (ИПМ), в котором
магнитное поле, уменьшающее потери ионов из плазмы, локализовано
вблизи стенок ГРК («магнитная стенка») и отсутствует в центре. В
результате сохраняется хорошая однородность плазмы на эмиссионной
границе и повышаются энергетическая и газовая эффективности. При
использовании 4-электродной, многоапертурной ИОС достигнут ток
пучка свыше 70 А при энергии ионов водорода (дейтерия) до 120 кэВ.
Указанные выше ИИ работают в квазистационарных режимах.
Для генерации пучков отрицательных ионов разработано два
метода: метод так называемой двойной перезарядки положительных
ионов и метод непосредственного извлечения отрицательных ионов из
плазмы.
Методом двойной перезарядки пучки отрицательных ионов
получаются при проведении сформированных пучков положительных
ионов низкой энергии через мишени из паров щелочных металлов (Nа,
Сs). Эффективность выхода ионов Н
-
составляет от 10 до 30% в
зависимости от выбора паров металла и энергии первичного пучка.
Использование ИИ типа ИБМ и ИПМ позволило получить пучки ионов
Н
-
в несколько А и ионов Не
-
до 1 А.
В ИИ металлов, особенно тугоплавких, помимо обычного зажигания
разряда в парах соответствующего металла, используют для получения
паров бомбардировку поверхности мощным электронным пучком, вы-
зывающим распыление металла. Современные импульсные плазменные
ИИ позволяют получать в течение десятков наносекунд ионные пучки с
током до 10
6
А, объѐмный заряд которых автоматически
компенсируется захватываемыми электронами. Принципиальная
трудность создания таких эффективных импульсных ИИ связана с
необходимостью подавления электронного потока, неизбежно
распространяющегося внутри высоковольтного разрядного промежутка
навстречу формируемому ионному пучку. Она успешно преодолевается
в т. н. отражательных триодах и диодах с поперечным магнитным
полем. Отражательный диод состоит из двух катодов и находящегося
между ними тонкоплѐночного анода, на который подаѐтся короткий
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 22
- 23
- 24
- 25
- 26
- …
- следующая ›
- последняя »
