Определение размеров металлических наночастиц из спектров плазмонного резонанса. Парфенов В.В - 14 стр.

     Стадию высокодозовой ионной имплантации можно разделить на
характерные интервалы доз (или времен облучения) (рис. 3). Так, в интервале
1015 < ~F0 < 1016 ион/см2, концентрация имплантируемой примеси начинает
превышать растворимость атомов металла в диэлектрике, что приводит к
зарождению и росту МНЧ, например, сферических наночастиц серебра в
матрице из органического стекла (рис. 4).




    Рисунок 4. Микрофотография наночастиц серебра в матрице органического
    стекла, синтезированных при имплантации дозой 5·1016 ион/см2 с энергией
    30 кэВ.


     Граничное     значение     критической     дозы,    начиная    с   которой
зарождаются и формируются МНЧ, существенно зависит от типа облучаемой
матрицы и имплантируемой примеси. Например, для случая имплантации
ионов серебра в кристалл LiNbO3 при энергии 25 кэВ данная величина
составляет F0 ~ 5.0·1015 ион/см2, а при облучении эпоксидной смолы теми же
ионами с энергией 30 кэВ – F0 ~ 1016 ион/см2.
     Последующая       стадия     высокодозовой         ионной     имплантации,
определяемая примерно величиной F0 ~ 1017 ион/см2, может привести к
коалесценции (слипанию) ранее зарожденных МНЧ и пространственных
агрегатов МНЧ, либо к появлению тонкой квазисплошной пленки (рис. 3). В
настоящей работе изучаются образцы из изолированных друг от друга
наночастиц серебра в объеме натриево-кальциевого силикатного стекла.



                                                                              14