Преломление и отражение рентгеновского излучения. Павлинский Г.В. - 32 стр.

                   Рассчитанная по полученным соотношениям зависимость
             интенсивности MoKα- излучения от расстояния до поверхности и от
             глубины проникновения для угла ϕ0 = (ϕ0)max представлена на рис.9.
                   Из рис.6.9 следует, что в рассматриваемом случае первый
             антиузел совпадает с отражающей поверхностью кремния, узлы над
             этой поверхностью следуют на расстоянии а = 20 нм, а под
             поверхностью интенсивность затухает на расстоянии нескольких
             десятков нанометров. При отражающей способности R(ϕ0 max) = 81,5%
             антиузлы имеют интенсивность, в 3,6 раза превышающую
             интенсивность падающего излучения.
                   При критическом угле (ϕ0)max период стоячих волн определяется
             выражением
                                                  λ 1
                                         a crit =      ,                    (55)
                                                  2 2δ
                   то есть не зависит от длины волны отраженного излучения (т.к.
             декремент δ пропорционален квадрату λ). Периоды стоячих волн в
             этом случае для некоторых отражающих поверхностей представлены в
             табл.5.
                                                                       Таблица 5.
             Зависимость периода стоячих волн acrit при критическом угле падения
             (ϕ0)max от материала отражающей поверхности.

                             Отражающий материал                аcrit [нм]
                                  Плексиглас                      26,9
                               Кварцевое стекло                   20,3
                                   Кремний                        20,0
                                     Медь                         10,7
                                    Тантал                          8,3
                                    Золото                          7,7

                   При углах, меньших критического, расстояние между узлами
             увеличивается, и первый антиузел смещается от поверхности.
             Проникновение в отражающий материал быстро уменьшается (для
             угла падения ϕ0 = 0,050 до нескольких нанометров).
                   Стоячие волны образуются также в случае слоя, нанесенного на
             массивную подложку. В треугольной области I над поверхностью слоя
             (см. рис.10) пучки интерферируют, пересекаясь под углом 2ϕ0, а в
             трапециевидной области II – под углом 2ϕ1. Излучение, проникшее в
             подложку (область III), распространяется с уменьшением своей
             интенсивности. Интерференция двух пучков, отраженных в одном



                                                                                   32

PDF created with FinePrint pdfFactory Pro trial version http://www.fineprint.com