ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
33
6. ВЫХОДНЫЕ ВОЛЬТ-АМПЕРНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ И
КРУТИЗНА МОЩНЫХ МОП -ТРАНЗИСТОРОВ С КОРОТКИМ N-
КАНАЛОМ
Современные высоковольтные переключающие, а также ВЧ и СВЧ МОП-
транзисторы с вертикальной и горизонтальной структурой имеют короткие
индуцированные n-каналы длиной l
к
≤1 мкм и создаются методами двойной
диффузии примесей (акцепторов и доноров) (рис. 1).
В МОП- транзисторах, разработанных в 1970÷1980 г.г., использовались
длинные каналы (l
к
=5÷10 мкм ), и физические явления переноса носителей
заряда в них существенно отличаются от современных МОП-транзисторов с
l
к
≤ 1 мкм . В частности , в современных МОП-транзисторах отсутствует явление
отсечки канала при больших стоковых напряжениях , а дрейфовая скорость
электронов в n-канале V
de
=µ
n
(E
y
)⋅E
y
достигает предельного значения
V
des
=(0,5÷0,6)⋅10
7
см / с, называемого дрейфовой скоростью насыщения, даже
при очень малых значениях стокового напряжения U
си
≤ 0,5 В . В результате для
МОП-транзисторов с коротким каналом получаются более простые выражения
для выходных ВАХ I
c
=I
c
(U
си
)|
Uзи =const
и крутизны S=dI
c
/dU
зи
|
U си=const
, чем для
традиционных МОП-транзисторов с длинным каналом [6,7].
Для конкретности рассмотрим МОП-транзистор с коротким
индуцированным n-каналом и горизонтальной структурой (электроды истока и
Истоковая
ячейка
n-Si
-
n-канал
n
+
n-Si
+
n
+
Al
Al
Исток
Затвор
Затвор
Сток
-
-
+
+
SiO
2
Поликремний
y
x
V
си
V
зи
p
+
r
2
r
0
r
1
Рис. 1. Структура мощного горизонтального МОП-транзистора,
изготовленнного методом двойной диффузии примесей
33 6. ВЫ Х О ДН Ы Е ВО Л ЬТ-А М П Е Р Н Ы Е Х А Р А КТЕ Р И С ТИ КИ И КР У ТИ ЗН А М О Щ Н Ы Х М О П -ТР А Н ЗИ С ТО Р О В С КО Р О ТКИ М N- КА Н А Л О М Соврем енны евы соковольтны епереклю чаю щ ие, а такж еВ Ч и СВ Ч М О П- транзисторы с вертикальной и горизонтальной структурой им ею т короткие инд уцированны е n-каналы д линой lк≤1 м км и созд аю тся м етод ам и д вой ной д иф ф узии примесей (акцепторови д оноров) (рис. 1). Vси - + Затвор Сток Затвор И сток Vзи Поликрем ний Al - + Al SiO 2 n+ n+ r1 n+ -Si y p+ r0 r2 n-канал И стоковая n--Si ячей ка x Рис. 1. Структура м ощ ного горизонтального М О П-транзистора, изготовленнного м етод ом д вой ной д иф ф узии прим есей В М О П- транзисторах, разработанны х в 1970÷1980 г.г., использовались д линны е каналы (lк=5÷10 м км ), и ф изич еские явления переноса носителей заряд а в них сущ ественно отличаю тся отсоврем енны х М О П-транзисторов с lк≤1 м км . В частности, в соврем енны х М О П-транзисторах отсутствуетявление отсечки канала при больш их стоковы х напряж ениях, а д рей ф овая скорость э лектронов в n-канале Vde=µn(Ey )⋅Ey д остигает пред ельног о значения Vdes=(0,5÷0,6)⋅107 см/с, назы ваем ого д рей ф овой скоростью насы щ ения, д аж е при очень м алы х значениях стокового напряж ения Uси≤0,5 В . В результате д ля М О П-транзисторов с коротким каналом получаю тся более просты евы раж ения д ля вы ход ны х В А Х Ic=Ic(Uси)|Uзи=const и крутизны S=dIc /dUзи|Uси=const, чем д ля трад иционны х М О П-транзисторовсд линны м каналом [6,7]. Д ля конкретности рассм отрим М О П-транзистор с коротким инд уцированны м n-каналом и горизонтальной структурой (э лектрод ы истока и
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 31
- 32
- 33
- 34
- 35
- …
- следующая ›
- последняя »