ВУЗ:
Составители:
Рубрика:
31
[] []
[] []
)(
3
2
)()(ln026,0
3
2
)()(ln009,0
)()(ln026,0
)(
2
1
)()(ln
xExNxN
dx
d
xNxN
dx
d
xNxN
dx
d
dx
xEd
q
xNxN
dx
d
q
kT
эadad
ad
g
ad
=−−=−+
+−−=
∆
+−−
.
(25)
Таким образом , встроенное поле в n-эмиттере из- за эффекта сужения
запрещенной зоны кремния ∆ E
g
уменьшается на 1/3.
С учетом равенства (25) выражение (24) для дырочного тока I
p
(x) примет
следующий вид :
[]
dx
xdp
xDqSxNxN
dx
d
xpx
q
kT
qSxI
pn э padpn э pp
)(
)()()(ln)()(
3
2
)(
−−
−−−= µ
(26)
Как и при вычислении электронного тока эмиттера (выражение (16)),
учитываем , что в первом приближении дырочный ток I
p
(x) в n-эмиттере можно
считать почти постоянным и равным I
p
(x
'
э
). Действительно, для ВЧ и СВЧ
кремниевых планарных транзисторов толщина n-эмиттера х
э 0
обычно равна
1÷0,3 мкм , а диффузионная длина дырок оказывается, согласно [3], 1÷19 мкм
соответственно.
Заменяя в левой части равенства (26) величину I
p
(x) на I
p
(x′
э
), после
преобразований получаем следующее дифференциальное уравнение первого
порядка для нахождения неравновесной концентрации дырок p(x):
[]
)(
)(
)(
)(
)()(ln)(
3
2
)(
xDqS
xI
xDqS
xI
xNxN
dx
d
xp
dx
xdp
pn э p
эp
pn э p
эp
ad
−−
′
=
′
−=−+ ,(27)
поскольку
kT
q
xD
x
p
p
=
)(
)(
µ
.
Решение уравнения (27) имеет вид , аналогичный выражению для
неравновесной концентрации электронов n(x) в p-базе:
′
∫
′
+
∫
=
′′
−
′
′
′−
−−
∫
xde
xDqS
xI
Cexp
xdxNxN
xd
d
x
x
pn э p
эp
dxxNxN
dx
d
ad
э
ad
)]()(ln[
3
2
)]()(ln[
3
2
)(
)(
)(
(28)
где C - неопределенная постоянная интегрирования.
После преобразований формула (28) упрощается :
[]
[]
′′
−
′
′
′
−
−
=
∫
′
−
xdxNxN
xDqS
xI
C
xNxN
xp
э
x
x
ad
pn э p
э p
a
d
3
2
3
2
)()(
)(
1
)(
)()(
1
)( .
(28
*
)
31
1 d ∆E g ( x )
ln[ N d ( x ) − N a ( x )]+ = −0,026 ln[N d ( x) − N a ( x )]+
kT d d
−
q dx 2q dx dx .
ln[ N d ( x ) − N a ( x )] = − 0,026 ln[ N d ( x ) − N a ( x )] = E э ( x)
d 2 d 2
+ 0,009
dx 3 dx 3
(25)
Т аким образом , встроенное поле в n-э м иттере из-за э ф ф екта суж ения
запрещ енной зоны крем ния ∆Eg ум еньш ается на 1/3.
С уч етом равенства (25) вы раж ение(24) д ля д ы рочного тока Ip(x) прим ет
след ую щ ий вид :
µ p ( x) p ( x) ln[N d ( x) − N a ( x)]− qS эp − n D p ( x)
2kT d dp ( x )
I p ( x) = − qS эp − n
3q dx dx
(26)
К ак и при вы ч ислении э лектронного тока э м иттера (вы раж ение (16)),
учиты ваем , что в первом приближ ении д ы рочны й ток Ip (x) в n-э м иттере м ож но
сч итать почти постоянны м и равны м Ip (x'э ). Д ей ствительно, д ля В Ч и СВ Ч
крем ниевы х планарны х транзисторов толщ ина n-э миттера хэ 0 обы чно равна
1÷0,3 м км, а д иф ф узионная д лина д ы рок оказы вается, согласно [3], 1÷19 м км
соответственно.
Зам еняя в левой части равенства (26) велич ину Ip(x) на Ip (x′ э ), после
преобразований получаем след ую щ ее д иф ф еренциальное уравнение первого
поряд ка д ля нахож д ения неравновесной концентрации д ы рокp(x):
I p ( x ′э ) I p ( x ′э )
+ p ( x ) ln[N d ( x) − N a ( x)] = −
dp ( x ) 2 d
= ,(27)
dx 3 dx qS эp−n D p ( x ) qS эp −n D p ( x )
µ p ( x) q
поскольку = .
D p ( x ) kT
Реш ение уравнения (27) имеет вид , аналогичны й вы раж ению д ля
неравновесной концентрации э лектроновn(x) вp-базе:
ln[ N d ( x) − N a ( x )]dx I p ( x ′э ) ∫ ln[ N d ( x′) −N a ( x′ )]dx′
2 d 2 d
3 ∫ dx
− x
p ( x) = e C + ∫ e 3 dx′ d x ′
x′э qS эp− n D p ( x )
(28)
гд еC - неопред еленная постоянная интегрирования.
Послепреобразований ф орм ула (28) упрощ ается:
I p ( x э′ ) x′э 1
1
[N d ( x ′) − N a ( x ′)] 3 dx ′ .
2
p ( x) = C − ∫
[N d ( x ) − N a ( x ) ]
2
3 qS эp− n x D p ( x ′ )
(28*)
Страницы
- « первая
- ‹ предыдущая
- …
- 29
- 30
- 31
- 32
- 33
- …
- следующая ›
- последняя »
