Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 17 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ТТИ ЮФУ | Таганрог

Составители: 

Рубрика: 

19
Поэтому очень важно рассмотреть особенности существующих методов
литографии и провести их сравнительный анализ. К ним относят:
1) фотолитографию;
2) рентгенолитографию;
3) электронно-лучевую литографию;
4) ионную литографию.
Фотолитография предполагает формирование микрорисунка посредством
засветки тонкого слоя фоторезиста, нанесенного на поверхность пластины,
при помощи направленных пучков фотонов в ультрафиолетовой области спек-
тра. Основным недостатком данного метода является сравнительно большая
длина волны фотонов (0,2 - 0,3 мкм), не позволяющая формировать элементы
микрорисунка с размерами менее 1 мкм вследствие дифракции. Данное об-
стоятельство ограничивает применение фотолитографии в процессе производ-
ства БИС и СБИС [3-5].
Наиболее очевидный путь повышения разрешающей способности - ис-
пользование более коротковолновых излучений, например низкоэнергетиче-
ского рентгеновского излучения (1 - 10 кэВ) с длинами волн порядка 0,4 - 5
нм. Данный метод получил название рентгенолитографии и представляет со-
бой значительный шаг вперед по сравнению с фотолитографией, поскольку
позволяет значительно уменьшить влияние дифракции на качество формируе-
мого на поверхности полупроводни-
ковой пластины рисунка. Однако он
не смог полностью заменить фотоли-
тографию вследствие целого ряда
трудностей.
Прежде всего, оказалось нелегко
создать источник рентгеновских лу-
чей высокой интенсивности. Рентге-
новское излучение возникает при
торможении в материале мишени
направленного потока электронов.
Причем процесс этот малоэффектив-
ный, так как большая часть энергии
электронов идет на нагрев мишени.
Для электронного луча диаметром 1
мм, падающего на алюминиевую
мишень с водяным охлаждением,
типовая величина максимальной
мощности равна 400 - 500 Вт. Мощ-
Рис. 13. Схема рентгенолито-
графической установки

Страницы