Проектирование специализированных СБИС. Рындин Е.А. - 26 стр.

UptoLike

ВУЗ: 

ТТИ ЮФУ | Таганрог

Составители: 

Рубрика: 

28
4) электростатические и магнитные линзы, служащие для фокусировки луча и
формирования четкого изображения на поверхности образца;
5) гасящие пластины, осуществляющие “запирание” луча в определенные
промежутки времени при сканировании;
6) диафрагма 2, предназначенная для экранирования части луча, в пределах
которой траектории электронов не являются прямыми линиями, что обу-
словлено влиянием гасящих пластин;
7) стигматор, компенсирующий асимметрию электронно-оптической системы
(астигма-тизм);
8) диафрагма 3, предназначенная для ограничения апертуры луча, прошедше-
го через магнитную линзу 3, с целью устранения аберраций, возникающих
при больших угловых апертурах;
9) отклоняющая система, служащая для отклонения электронного луча при
сканировании.
Диафрагмы изготавливаются из платины и других благородных металлов
и представляют собой пластины толщиной 100 мкм с отверстиями размером
100 мкм.
Стигматор представляет собой четырех- или восьмиполюсный прибор,
образованный соответствующим числом магнитных катушек или металличе-
ских пластин (см. рис. 20).
Отклоняющая система может быть электростатической или магнитной.
Для электростатических систем характерна значительно большая расфокуси-
ровка луча, чем для магнитных, поскольку в электростатических системах
отклонение луча обратно пропорционально ускоряющему напряжению, тогда
как в магнитных - обратно пропорционально корню квадратному из ускоряю-
щего напряжения. Кроме того, электростатические системы характеризуются
большей нестабильностью параметров по сравнению с магнитными, обуслов-
ленной оседанием различных частиц и пылинок на пластины в электрическом
поле [3-5].
Аналогично отклоняющим системам, линзы могут быть электро-
статическими и магнитными. Причем электростатическим линзам также свой-
ственна нестабильность параметров вследствие оседания частиц и пылинок в
электрическом поле.
Электростатическая линза представляет собой металлическую пластину с
отверстием с различными напряженностями электрического поля по обе ее
стороны. Оптическая сила линзы пропорциональна разности этих напряжен-
ностей (рис. 22).
Рис. 21. Схема электронно-оптической
установки

Страницы