Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 1. Шутов Д.А - 68 стр.

перспективными остаются пленка окиси хрома, кремния, ванадия, нитрида тантала.
В связи с тем, что концентрация активных ионов в окисле всегда меньше, чем в
чистом металле, пленки окислов металлов имеют коэффициент поглощения всегда
меньший, чем пленки чистого металла. Поэтому окисные пленки для получения
заданной оптической плотности нужно делать более толстыми.
      Зависимость оптической плотности от толщины для пленки Fe2Оз показана
на рисунке 7.
     4
         Оптическая плотность                                   Оптическая плотность
                                                            4



     3                                                      3



     2                                                      2



     1                                                      1




                   300          400   500   λ, нм               60        120          180   240   300
                                                                                                    d, нм


   Рис.6. Идеальная характеристика                       Рис.7. Оптическая плотность пленок
   пропускания для полупрозрачных                           Fe2O3 на длине волны 420 нм
         маскирующих пленок

      Несмотря на относительно большую толщину пленок окислов по сравнению
с толщиной однослойных пленок Сr и Мо (180-300 нм по сравнению с 80-120 нм)
на пленках окислов можно воспроизводимо получать структуры с минимальными
размерами 1-1,5 мкм. Повышению разрешающей способности пленок окислов
металлов способствуют такие их свойства, как лучшая, чем у металлических
пленок адгезия к слою фоторезиста и к стеклу и низкий коэффициент отражения в
УФ области спектра.
      Оптическую плотность пленок окислов можно в определенной степени
контролировать, изменяя условия осаждения пленки (температуру подложки,
состав газовой смеси) или применяя термообработку полученных пленок.
Например, в пленках Fe2Q3 , полученных катодным распылением в смеси CO–СO2,
при понижении температуры подложки, повышается растворимость пленок и,
следовательно, улучшается разрешающая способность, но при этом край
характеристики слишком сдвигается в коротковолновую область спектра, и пленка
начинает пропускать актиничное излучение. Напротив, при повышении
температуры подложки при осаждении пропускание уменьшается, и поэтому
можно применять пленку меньшего размера. Так, для получения пропускания
порядка 1% и менее при температуре подложки 100ºС ее толщина может быть
уменьшена до 160 нм. Аналогичного эффекта увеличения оптической плотности
можно добиться, подвергая термообработке готовый фотошаблон из Fe2O3
      Основным методом, позволяющим получать как пленки из металлов, так и
оксидные пленки, является метод ионно-плазменного распыления.
Получение пленок методом ионно-плазменного распыления
      Метод катодного распыления имеет четыре разновидности:
      1. Катодное распыление (диодная система).
      2. Ионно-плазменное распыление (триодная система).

                                                    68