Процессы микро- и нанотехнологий. Ч. 1. Шутов Д.А - 66 стр.

производится в зависимости от технологии изготовления ПП, стандартизованности
и серийности изделий. Однако, при этом полностью сохраняется приемственность
всех процессов производства фотошаблонов, как для сложных многослойных
печатных плат, так и для простых односторонних и двух сторонних ПП.
      Из данных, приведенных в Приложении 3 видно, что каждому
индивидуальному      способу    изготовления    ПП    соответствует     комплект
определенного типа фотошаблонов. Различаются такие параметры фотошаблонов,
как негатив-позитив, зеркальный-прямой. Остаются неизменными топологический
рисунок и другая графическая информация на ФШ не зависимо от
технологического способа изготовления данной ПП.
Маскирующие пленки на основе металлов.
      Примерно с 60-х. годов в качестве маскирующего покрытая для
фотошаблонов применяются металлические пленки. Механическая прочность и
химическая стойкость таких покрытий позволила резко увеличить срок службы
фотошаблонов и сделала экономически перспективной автоматизацию процессов
фотолитографии.
      Высокая оптическая плотность, свойственная металлам, позволяет
применять маскирующие пленки толщиной не более 80-150 нм, что привело к
увеличению разрешающей способности рисунка до 1-2 мкм.
      Малая толщина пленки, меньший, чем у фотоэмульсии, размер зерна,
равномерное травление, высокая термическая стабильность и влагостойкость
пленок обеспечила повышение резкости краев рисунков, точный контроль
размеров. Высокая механическая и химическая стойкость позволила значительно
снизить уровень дефектов, вносимых на стадии эксплуатации.
      Для изготовления металлизированных фотошаблонов в настоящее время в
основном используют пленки хрома, т.к. Cr имеет очень высокий коэффициент
поглощения в УФ области и обеспечивает получение высокой оптической
плотности уже при толщине 45÷80 нм. Кроме того, пленки хорошо травятся, имеют
хорошую адгезию к стеклу, механически прочны.
      Наряду с хромом в качестве маскирующих пленок могут быть использованы
пленки из тугоплавких металлов (Mo, Ta, W ). Они обладают большей, чем у Сr
термо- и износостойкостью, а по степени травления и адгезии примерно сравнимы
с пленками Сr.
      Несмотря на широкое использование пленки хрома имеют ряд недостатков.
Существенным недостатком является очень большой коэффициент отражения
пленок Сr и других металлов в УФ и видимой области спектра (70-80%). В
результате этого при экспонировании методом контактной печати, когда
фотошаблон лицевой стороной, покрытой пленкой Сr , прижат к слою фоторезиста,
УФ излучение, прошедшее через прозрачные участки фотошаблона и отраженное
от поверхности раздела фоторезист - пластина обратно к пленке Сr, не поглощается
ею, а опять отражается в фоторезист под различными углами, и весь процесс
отражения повторяется. В результате многократного отражения света в слое
фоторезиста могут засвечиваться края формируемых рисунков, которые становятся
нерезкими, и таким образом снижается разрешающая способность.
      На операции совмещения фотошаблона с кремниевой пластиной, когда свет,
идущий в глаза оператора, должен отражаться как от фотошаблона, так и от
пластины, высокий коэффициент отражения слоя металла в видимой области
спектра уменьшает контрастность видимого оператором изображения, что

                                       66